[发明专利]显示装置、激光转印方法及激光转印色板

说明书

技术领域

本发明是有关于一种显示装置，且特别是有关于一种以激光转印方法形成彩色光阻的显示装置。

背景技术

目前，例如液晶显示装置(Liquid Crystal Display)、电泳显示装置(Electrophoretic Display)、有机发光二极管显示装置(Organic Light Emitting Diode Display)等显示装置的应用愈来愈广泛。

一般，显示装置为了可进行彩色显示，通常以形成彩色光阻来实现。现有激光转印法是将彩色光阻转印至显示层上的彩色化技术，例如应用于黑白电泳显示装置，是将彩色光阻直接转印于黑白电泳显示装置的表面上，当彩色光阻经激光热转印后，温度升高及曝露于环境光的照射下，彩色光阻容易有色度产生变化的问题，进而影响显示质量。

因此，如何避免显示装置的显示颜色改变，以提升显示装置的显示效果实为相关领域的人员所重视的议题之一。

发明内容

本发明目的是提供一种显示装置，通过形成紫外光遮挡层，可克服彩色光阻的色度产生变化的问题。

本发明提供一种激光转印方法，用以形成彩色光阻。

本发明提供一种激光转印色板，用于激光转印方法，以形成彩色光阻。

本发明提出一种显示装置，其包括薄膜晶体管基板、显示层、图案化彩色光阻层、图案化紫外光遮挡层及透明保护层。薄膜晶体管基板具有基板及多个薄膜晶体管。显示层设置于薄膜晶体管基板上。图案化彩色光阻层设置于显示层上，图案化紫外光遮挡层设置于图案化彩色光阻层上，以及透明保护层设置于图案化紫外光遮挡层上。

在本发明的较佳实施例中，上述的紫外光遮挡层包括二氧化钛(TiO2)与热弹性树脂的混合材料。热弹性树脂包括聚氨基甲酸酯树脂(Polyurethane Resin)或聚酯树脂(Polyester Resin)。紫外光遮挡层的厚度为0.1～2.5微米。

本发明提出一种激光转印方法，用以形成彩色光阻。其包括提供激光转印色板，其中，激光转印色板具有由基材、光热转换层、紫外光遮挡层及彩色光阻层依序形成的叠层结构。将激光转印色板放置于显示层上，且彩色光阻层朝向显示层。之后，提供激光照射激光转印色板，使紫外光遮挡层及彩色光阻层剥离形成图案化紫外光遮挡层及图案化彩色光阻层，且黏着于显示层上。其中图案化彩色光阻层位于显示层上，图案化紫外光遮挡层位于图案化彩色光阻层上。

本发明提出一种激光转印色板，其包括基材、光热转换层、紫外光遮挡层及彩色光阻层。光热转换层设置于基材上，紫外光遮挡层设置于光热转换层上，彩色光阻层设置于紫外光遮挡层上。

本发明因形成紫外光遮挡层于彩色光阻层上，紫外光遮挡层可用以遮挡环境的紫外光照射，可克服彩色光阻的色度产生变化的问题，且避免显示装置的显示颜色改变。

为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合附图，作详细说明如下。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1至图2为本发明实施例的彩色光阻在激光转印形成过程中的示意图。

图3绘示本发明实施例的显示装置结构的示意图。

元件符号说明：

10：激光转印色板             100：显示装置        102：基材

104：光热转换层              106：紫外光遮挡层    108：彩色光阻层

106’：图案化紫外光遮挡层    108’、118’、128’：图案化彩色光阻层

110：激光                    120：薄膜晶体管基板  122：显示层

124：透明保护层。

具体实施方式

图1至图2绘示本发明实施例的彩色光阻在激光转印形成过程中的示意图。请参见图1，首先，提供一种激光转印色板10，其中激光转印色板10具有由基材(Donor Sheet)102、光热转换层(Light to Heat Conversion Layer)104、紫外光遮挡层(UV Block Layer)106及彩色光阻层108依序形成的叠层结构。具体来说，光热转换层104设置于基材102上，紫外光遮挡层106设置于光热转换层104上，以及彩色光阻层108设置于紫外光遮挡层106上。在本实施例中，紫外光遮挡层106的厚度为0.1～2.5微米。但本发明并不以此为限，在其他实施例中，其更可形成黏着层于彩色光阻层上。