[发明专利]带甲醇气化装置的淬火炉无效
申请号: | 201010224145.1 | 申请日: | 2010-07-12 |
公开(公告)号: | CN101886157A | 公开(公告)日: | 2010-11-17 |
发明(设计)人: | 涂春旺;黄北彰 | 申请(专利权)人: | 宏茂五金(昆山)有限公司 |
主分类号: | C21D1/18 | 分类号: | C21D1/18;C21D1/62;C21D1/74 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215332 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 甲醇 气化 装置 淬火 | ||
技术领域
本发明涉及一种热处理工艺的改进装置,特别是涉及一种带甲醇气化装置的淬火炉。
背景技术
将金属工件加热到某一适当温度并保持一段时间,随即浸入淬冷介质中快速冷却的金属热处理工艺。常用的淬冷介质有盐水、水、矿物油、空气等。淬火可以提高金属工件的硬度及耐磨性,因而广泛用于各种工、模、量具及要求表面耐磨的零件(如齿轮、轧辊、渗碳零件等)。通过淬火与不同温度的回火配合,可以大幅度提高金属的强度、韧性及疲劳强度,并可获得这些性能之间的配合(综合机械性能)以满足不同的使用要求。
在金属热处理工艺当中,甲醇是最重要的辅料之一,甲醇的加入方式起着十分重要的作用。目前市场上所采用的工艺为液态甲醇在淬火炉中直接使用。此种工艺会使得甲醇在淬火炉内分解不完全,从而产生积碳,对炉体以及工件造成损伤,且污染环境。
同时现有的淬火炉在淬火过程中,甲醇气体在淬火炉内分布不够均匀,气氛不够饱满,这样工件在淬火时达不到较好的淬火效果。
发明内容
为了解决现有技术中液态甲醇在淬火炉内气化分解不完全,产生积碳,对炉体以及工件造成损伤,且污染环境的问题,本发明提供了一种带甲醇气化装置的淬火炉,使得甲醇在甲醇气化装置内气化裂解,进入淬火炉内已经分解完全,同时能够很好控制气化甲醇的流量,使甲醇气体分布均匀。
为了达到上述目的,本发明所采取的技术方案是:
一种带甲醇气化装置的淬火炉,包括淬火炉,在淬火炉内横向设置有输送工件的网带;其特征在于:还包括甲醇气化装置,所述淬火炉的顶部设有若干通入淬火炉内的管道,所述管道的进气口与甲醇气化装置贯通连接,在淬火炉内,管道的出气口旁设置有风扇;在淬火炉的主控制室设置有CP值显示装置,所述CP值显示装置与氧碳头相连接,所述氧碳头伸入淬火炉内。
前述的一种带甲醇气化装置的淬火炉,其特征在于:在每个管道上都设置有控制管道开闭的阀门。
本发明的有益效果是:1、本发明气化甲醇的淬火装置,甲醇在甲醇气化装置内气化裂解,进入淬火炉内已经分解完全,这样甲醇在淬火炉中使用时,不会产生污染,也不会产生积碳,延长了淬火炉的使用寿命,同时也提高了淬火工件的品质,降低了工件的报废率。
2、本发明设置有CP值显示装置与氧碳头,通过氧碳头探测CP值,并通过CP值显示装置进行显示,这样操作者可根据CP值来开闭阀门控制甲醇气体的流量。同时观察CP值也能控制工件下料的时间,一般在CP值到设定值0.25-0.30,预热区吐火后,开始下料。
3、本发明在淬火炉内,管道的出气口旁设置有风扇,这样灌入淬火炉内的甲醇气体通过风扇进行搅拌,可使气氛在淬火炉内分布均匀饱满,这样工件在淬火时效果更好。
附图说明
图1是本发明带甲醇气化装置的淬火炉的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步的描述。
如图1所示,一种带甲醇气化装置的淬火炉,包括淬火炉1和甲醇气化装置3,在淬火炉1内横向设置有输送工件的网带2;淬火炉1的顶部设有三条通入淬火炉内的管道4,在每个管道4上都设置有控制管道开闭的阀门5。管道4的进气口与甲醇气化装置3贯通连接,在淬火炉1内,管道4的出气口旁设置有风扇6;在淬火炉1的主控制室设置有CP值显示装置7,CP值显示装置7与伸入到淬火炉1内氧碳头相连接。下面介绍带甲醇气化装置的淬火炉的工作过程:
1、通过甲醇气化装置3将甲醇完全气化裂解;
2、把淬火炉1温度升到800℃以上后,开启阀门5将完全气化裂解的甲醇气体灌入淬火炉1内,在淬火炉1内产生还原气氛。同时开启风扇6搅拌裂解的甲醇气体,使其搅拌均匀。
3、通过氧碳头探测CP值,观察CP值显示装置7显示CP值到0.8后,点火装置点火让淬火炉1内充分燃烧和气氛饱满上升。
4、当CP值显示装置7显示CP值到达设定值0.25-0.30,露点-14,氧伏值1130-1350。预热区吐火后,开始下料。
显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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