[发明专利]一种制备氮掺杂TiO2光催化薄膜的方法

权利要求书

1.一种氮掺杂TiO₂光催化薄膜的制备方法，其特征在于：首先采用离子渗氮工艺对金属钛或钛合金表面进行渗氮处理，之后再采用微弧氧化技术在渗氮后的金属钛或钛合金基体表面上原位生长氮掺杂TiO₂薄膜。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，具体包括如下步骤：

1)离子渗氮：选择抛光处理后的金属钛或钛合金放入通有氨气的离子渗氮炉中，炉腔保持负压；金属钛或钛合金作为阴极材料，炉体作为阳极材料，在阴阳极间施加电压产生辉光放电作用，控制温度700～900℃，恒温时间5～15h，在金属钛或钛合金表面形成一个渗氮层；

2)微弧氧化：把表面渗氮处理后的金属钛或钛合金作为阳极，不锈钢板作为阴极材料，置于电解液中，电解液温度控制在40℃以下；在200～400V脉冲电压下作用5～60min，在金属钛或钛合金基体表面生成氮掺杂TiO₂薄膜。

3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于：离子渗氮步骤中，待温度下降到100～180℃再取出钛或钛合金。

4.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于：微弧氧化步骤中，所述电解液为无水碳酸钠和九水硅酸钠的混合溶液，其中无水碳酸钠的质量浓度为15～30g/L，九水硅酸钠的质量浓度为5～15g/L。

5.权利要求1～4任一项所制备的氮掺杂TiO₂薄膜用于光催化净化领域。