[发明专利]用于波导配置的电光间隙室

权利要求书

1.一种用于相位调整系统中的相位调整元件，所述相位调整系统具有在其中邻近波导处形成的沟槽，所述相位调整元件包括：

基片，具有选定的形状，以允许所述相位调整元件的至少一部分被引入到所述沟槽中；

在所述基片上这样形成的开口，使得当所述相位调整元件的所述一部分被引入到所述沟槽中时，所述开口贴近所述波导；

贴近所述开口形成的至少一个电极；以及

设置在所述开口中的电光活性材料。

2.根据权利要求1所述的相位调整元件，其中所述电光活性材料包括液晶、超分子组装、以及光学活性介质中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的相位调整元件，其中所述电光活性材料被设置在聚合物格子和互穿聚合物网络中的至少一个的内部。

4.根据权利要求3所述的相位调整元件，其中所述聚合物包括碳基聚合物、非均质分子系统、硅氧烷、梯形硅氧烷、含硅聚合物、树枝状聚合物、以及超分子组装中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的相位调整元件，其中所述电光活性材料的折射率是响应于所施加的电场而可变的。

6.根据权利要求1所述的相位调整元件，其中所述电光活性材料是双折射的。

7.根据权利要求6所述的相位调整元件，其中所述双折射电光活性材料的折射率的定向是响应于所施加的电场而可变的。

8.根据权利要求1所述的相位调整元件，其中所述相位调整元件能够从所述沟槽中被移除。

9.一种形成用于相位调整系统中的相位调整元件的方法，其中所述相位调整系统具有在其中贴近波导处形成的沟槽，所述方法包括：

形成基片，所述基片具有选定的形状，以允许所述相位调整元件的至少一部分被引入到所述沟槽中；

在所述基片中形成开口，从而使得当所述相位调整元件被引入到所述沟槽中时，所述开口贴近所述波导；

形成贴近所述开口的至少一个电极；以及

在所述开口中沉积电光活性材料。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述沉积电光活性材料包括在所述开口中沉积液晶、聚合物稳定型液晶、以及聚合物分散液晶中的至少一种。

11.根据权利要求9所述的方法，其中形成具有选定形状的所述基片包括形成所述基片，从而使得所述相位调整元件能够从所述沟槽中被移除。

12.根据权利要求9所述的方法，其中形成所述基片包含由聚脂薄膜和硅酮中的至少一种形成所述基片。

13.根据权利要求9所述的方法，其中形成所述至少一个电极包括形成能够在所述开口内提供至少一部分选定定向的边缘电场的多个电极。