[发明专利]蒸镀机

说明书

技术领域

本发明涉及一种蒸镀机。

背景技术

目前使用的蒸镀机主要是透过电子束将膜料蒸发，使材料沉积于被镀物上。而镀膜过程中会有以下的情形发生：(1)当电子束持续对膜料进行蒸镀，坩锅在蒸镀腔内的位置固定不变，坩锅内的膜料相对镀膜伞架的高度会越来越低，造成蒸镀的时间越长电子束的能量需要越大，才能维持相同的镀率，因此，需额外设置一电子束功率控制器对电子束发射电子的功率进行控制；(2)当膜料在坩锅内的高度越来越低时，电子束可能没有足够的能量使所述膜料进行蒸发。也即，越下面的膜料越不易被蒸发到。当换料时为维持膜料的洁净度，通常会全部换新，对于膜料的消耗很大，增加镀膜成本。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可提高膜料利用率的蒸镀机。

一种蒸镀机，其包括一腔体、一膜料源、一蒸发源及一镀膜伞架。所述腔体包括一顶板及一与顶板相对的底板。所述镀膜伞架固设在所述腔体的顶板内侧。所述膜料源包括一坩埚座及一膜料。所述坩埚座开设有一收容所述膜料的收容槽。所述蒸镀机进一步包括一升降驱动组件、及一控制装置。所述升降驱动组件包括一固定板及一升降器。所述膜料源及所述蒸发源均固设在所述固定板上。所述固定板连接至所述升降器。所述升降器固定在所述腔体的底板上，并用于驱动所述固定板相对所述腔体的底板升降。所述控制装置设置在所述腔体内，与所述升降器电性连接，并用于控制所述升降器的升降量，以使所述收容槽内的所述膜料离所述镀膜伞架的高度始终保持不变。

相对于现有技术，所述控制装置用于控制所述升降器的升降量，以使所述收容槽内的所述膜料离所述镀膜伞架的高度始终保持不变，因此，所述蒸发源可以在恒定功率下，将膜料均匀蒸镀，提高膜料的利用率。。

附图说明

图1为本发明实施方式提供的蒸镀机的示意图。

主要元件符号说明

蒸镀机          100

腔体            10

升降驱动组件    20

膜料源          30

蒸发源          40

镀膜伞架        50

控制装置        60

顶板            11

底板            12

固定板          22

升降器          24

坩埚座          32

膜料            34

顶面            322

底面            324

收容槽          320

承载孔        51

待镀膜的基板  200

重力传感器    61

计算单元      62

升降器控制单元63

驱动部        241

升降部        242

具体实施方式

请参阅图1，本发明提供的蒸镀机100，其用于对待镀膜基板200进行蒸镀。所述蒸镀机100包括一腔体10、一升降驱动组件20、一膜料源30、一蒸发源40、一镀膜伞架50、及一控制装置60。

所述腔体10为一中空箱体，其包括一顶板11、一与顶板11相对的底板12。

所述升降驱动组件20设置在所述腔体10的底板12上。该升降驱动组件20包括一固定板22及一升降器24。所述固定板22承载在所述升降器24上并可在所述升降器24的驱动下相对所述底板12升降。具体地，所述升降器24包括一驱动部241及一可相对驱动部241升降的升降部242。所述驱动部241固设在所述腔体10的底板12上。所述固定板22承载在所述升降部242上。所述升降器24可以为一汽缸或一升降马达。该升降器24用于驱动所述固定板22相对所述腔体10的底板12升降。

所述膜料源30固定在所述固定板22上。该膜料源30包括一坩埚座32及一膜料34。所述坩埚座32包括一顶面322及一与所述顶面322相对的底面324。所述坩埚座32的顶面322开设有一由所述顶面322朝向所述底面324内凹的收容槽320。所述膜料34收容在所述收容槽320内。本实施方式中，所述膜料34选用SiO2。

所述蒸发源40固定在所述固定板22上，并与所述膜料源30相邻设置，该蒸发源40用于使所述膜料源30发射的膜料加热至蒸汽状态。本实施方式中，所述蒸发源40为电子枪。