[发明专利]丙烯酸单体、聚合物和化学增幅型光致抗蚀剂组合物无效

专利信息
申请号: 201010211793.3 申请日: 2010-06-18
公开(公告)号: CN102030643A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 朴兰罗;金真湖;李昌洙;申大铉 申请(专利权)人: 韩国锦湖石油化学株式会社
主分类号: C07C69/67 分类号: C07C69/67;C08F220/18;C08F220/28;C08F222/14;C08F232/08;G03F7/004
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 曾旻辉;何冲
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 丙烯酸 单体 聚合物 化学 增幅 型光致抗蚀剂 组合
【权利要求书】:

1.一种丙烯酸单体,其特征在于:该丙烯酸单体的末端具有叔丁氧羰基。

2.如权利要求1所述的丙烯酸单体,其特征在于:所述丙烯酸单体如化学式(Ⅰ)所示,

化学式(Ⅰ):

其中R6表示氢或者甲基。

3.一种聚合物,其特征在于:所述聚合物由包括丙烯酸单体的混合物聚合而成,且所述丙烯酸单体的末端具有叔丁氧羰基。

4.如权利要求3所述的聚合物,其特征在于:其中所述聚合物包含分别由化学式(Ⅱ)和(Ⅲ)表示的重复单元,

化学式(Ⅱ):

其中R6表示氢或者甲基,且

化学式(Ⅲ):

其中R3表示C1-C30烷基或者C1-C30环烷基,每一个R3基团包括或者不包括氢原子、醚基、酯基、羰基、乙酰基、环氧基、硝基和醛基中的一个,且R5表示氢或者甲基。

5.如权利要求4所述的聚合物,其特征在于:所述聚合物进一步包括由化学式(Ⅳ)表示的重复单元,

化学式(Ⅳ):

其中R1表示C1-C30烷基或者C1-C30环烷基,每一个R1基团包括或者不包括氢原子、醚基、酯基、羰基、乙酰基、环氧基、硝基和醛基中的一个。

6.如权利要求4所述的聚合物,其特征在于:由化学式(Ⅲ)表示的重复单元数至少是两个,且该至少两个重复单元彼此不同。

7.如权利要求3所述的聚合物,其特征在于:其中所述聚合物由化学式(Ⅴ)表示,化学式(Ⅴ):

其中R1、R2和R3分别表示C1-C30烷基或者C1-C30环烷基,每一个R1、R2或R3基团包括或者不包括氢原子、醚基、酯基、羰基、乙酰基、环氧基、硝基和醛基中的一个;R4、R5和R6分别表示氢或者甲基,且l、m、n和o各自表示主链中的重复单元数,每一个数均满足:l+m+n+o=1,0≤l/(l+m+n+o)<0.4,0<m/(l+m+n+o)<0.6,0≤n/(l+m+n+o)<0.6,0<o/(l+m+n+o)<0.4。

8.如权利要求7所述的聚合物,其特征在于:化学式(Ⅴ)中的l满足0.1≤l/(l+m+n+o)<0.4。

9.如权利要求3所述的聚合物,其特征在于:所述聚合物就聚苯乙烯而言具有2,000到1,000,000的平均分子量,和1到5的分子量分布。

10.一种化学增幅型光致抗蚀剂组合物,该光致抗蚀剂组合物包括聚合物、光酸产生剂和溶剂,所述聚合物由包括丙烯酸单体的混合物聚合而成,所述丙烯酸单体的末端具有叔丁氧羰基。

11.如权利要求10所述的光致抗蚀剂组合物,其特征在于:所述聚合物包括由化学式(Ⅱ)和(Ⅲ)表示的重复单元,

化学式(Ⅱ):

其中R6表示氢或者甲基,

化学式(Ⅲ):

其中R3表示C1-C30烷基或者C1-C30环烷基,每一个R3基团包括或者不包括氢原子、醚基、酯基、羰基、乙酰基、环氧基、硝基和醛基中的一个,且R5表示氢或者甲基。

12.如权利要求10所述的光致抗蚀剂组合物,其特征在于:以所述光致抗蚀剂组合物的总量为100重量份计,所述聚合物占3到20重量份。

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