[发明专利]一种层出镰孢菌及其菌剂和应用无效

专利信息
申请号: 201010209217.5 申请日: 2010-06-25
公开(公告)号: CN101880633A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 孔令晓;王连生;栗秋生;纪莉景 申请(专利权)人: 河北省农林科学院植物保护研究所
主分类号: C12N1/14 分类号: C12N1/14;A01N63/04;A01N25/02;A01N25/12;A01P13/02;C12R1/77
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 胡长远
地址: 071000 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 层出 镰孢菌 及其 应用
【说明书】:

技术领域

发明属于农业微生物领域,具体涉及一种层出镰孢菌,以及利用该层出镰孢菌生产的微生物菌剂和应用。

背景技术

列当属于列当科(Orobanchaceae)、列当属(Orobanche),是一年生根寄生杂草,寄生在某些高等植物根上,无叶绿素和根系,以吸盘从寄主植物体内摄取养分和水分。在我国,危害较大的列当主要是向日葵列当、分枝列当和埃及列当。

目前防治列当的方法主要是采用耕作、栽培技术措施或施用化学药剂;但是由于列当种子产生量大,种子存活期长,且在适宜温湿度下,种子终年可以萌发,在作物的整个生育期内都会有列当出土,参差不齐,使得现有技术措施的防治效果非常差。

利用杂草的病原微生物研制专化性强、对目标杂草以外的植物影响小、环境负效应少、安全性高的生物除草剂,有可能成为防除杂草的有效途径。如镰刀菌属(Fusarium spp.)的某些种可以侵染列当,引起发病。王之樾(王之樾等.《新疆农业科技》1981(7):16-17。王之樾等.《中国生物防治》1985(1):24-26)从田间自然罹病的列当上分离到一株镰刀菌(Fusariumorobanches)并制成生防剂F798,用割茎涂液法防治哈密瓜列当,但是该方法需要先将列当的茎部割断,再涂抹上生防菌液,操作非常麻烦、推广比较困难,影响防治效果。尖孢镰刀菌(Fusarium oxysporum)(HEIKO THOMAS等.Anna1sof Botany.1999.83:453-458)能够在向日葵列当的地下生长阶段进行侵染,显著降低列当种子的萌发和寄生率。镰刀菌L2菌株(孔令晓等.植物病理学报.200636(5):466-469)对列当的防治效果达到92.4%,L2菌株粗毒素能够抑制列当种子萌发,并造成列当种子萌芽管损伤。

经过检索,没有发现利用层出镰孢菌防治列当的报道。

发明内容

针对抗列当品种少,以及化学农药防治所带来的防治效果差和污染环境的问题,本发明目的在于提供一种用于列当生物防治的层出镰孢菌菌株,该菌株可高效、长效抑制在向日葵和烟草上寄生的向日葵列当,并且对环境友好。

本发明另一目的在于提供利用上述层出镰孢菌菌株生产的微生物菌剂及其制备方法。

本发明第三个目的在于提供上述层出镰孢菌菌株及其微生物菌剂在防治向日葵列当上的应用。

为实现上述目的,本发明的技术方案如下:

一种层出镰孢菌(Fusarium proliferatum)菌株Br-1,已于2010年4月23日保藏于中国微生物菌种保藏管理委员会普通微生物中心,保藏编号为CGMCCNo.3759。

利用上述层出镰孢菌Br-1生产的微生物菌剂,其活性成分为层出镰孢菌Br-1菌体和/或它的胞外代谢产物。

上述微生物菌剂可以为液态制剂。

上述微生物菌剂可以为颗粒剂。

上述微生物菌剂的制备方法,包括如下步骤:

(1)菌种活化:将低温保存的菌株Br-1在PDA平板培养基上活化扩繁备用;

(2)种子液的制备:按常规方法制作PDB液体培养基,高压湿热灭菌后,接入步骤(1)活化的菌株Br-1,在24~28℃下振荡培养48~72h,得种子液;

(3)发酵培养:将葡萄糖豆饼粉培养基加入到发酵罐中,用HC1调节葡萄糖豆饼粉培养基的pH值至5,灭菌,然后待温度降到26℃,采用负压方法接入步骤(2)的种子液,在温度为25~26℃、通气量为1∶0.3~1.0、搅拌速度为140~180rpm条件下发酵培养44~60h;所述的葡萄糖豆饼粉培养基的组成成分及其重量百分比为:葡萄糖1~2%,豆饼粉0.2~0.4%,NH4NO30.1~0.2%,KH2PO40.2~0.4%和MgSO4·7H2O 0.1~0.2%,其余为水;

(4)检测发酵液中分生孢子数量,待发酵液中分生孢子数量达到108个/ml,停止发酵培养;所得即为Br-1菌株的液体制剂。

Br-1菌株颗粒剂的制备

将上述Br-1菌株的液体制剂经钠膜过滤浓缩10倍,然后按照浓缩液与草炭之间1∶7的比例向浓缩液中加入草炭,混合挤压成型,得Br-1菌株的颗粒剂,活菌含量达到108个/克。

上述制备方法步骤(2)中所述的温度优选为25~26℃。

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