[发明专利]摩擦方法、装置、取向膜及光学构件的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种摩擦(ラビンゲ)方法、装置、取向膜及光学构件的制造方法，特别涉及一种在制造液晶显示装置使用的光学构件时，能够抑制起尘并且能充分地摩擦取向膜形成层的技术。

背景技术

液晶显示装置中使用了各种光学构件，比如：作为偏光板使用的构件，使用了使视野扩大的光学补偿薄膜。这种光学补偿薄膜，一般是在透明树脂制的带状可绕性的支撑体表面涂上取向用的涂布液，经过干燥，形成取向膜形成层，之后在它的表面施以摩擦，从而形成取向膜。然后，在取向膜表面涂上液晶性涂布液，经过干燥，形成液晶层，其后使其硬化，由此制造光学补偿薄膜。

所谓摩擦是液晶分子的取向方法中所具代表性的一种，通过在织物(web)表面形成取向膜形成层，对这种取向膜形成层的表面，使卷回了摩擦用布材的摩擦辊高速旋转而涂擦来进行。

然而，近年来，随着液晶显示装置的高亮度化，高精细化，在减少对液晶显示装置的显示品质的降低有影响的亮点数的同时，需要减小亮点的大小。亮点缺陷的原因有的情况是由于摩擦不足或不稳定引起的取向不佳而产生的表面缺陷引起，也有的情况是由于摩擦时的灰尘引起。

目前，作为取向膜形成层的摩擦技术，例如有专利文献1～6。专利文献1是将取向膜形成层调湿，消除取向膜形成层的局部延伸的痕迹，由此降低由于取向不佳而引起的表面缺陷。专利文献2是在摩擦装置的上方一侧设置支撑体调湿装置，在控制支撑体的含水量的同时也控制摩擦装置周围的环境湿度，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。专利文献3是在摩擦时从支撑体的背面一侧施加流体压力，对摩擦辊挤压支撑体，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。专利文献4是通过使摩擦辊的旋转数在两个阶段可变，控制取向膜限制力的离散，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。专利文献5是通过将摩擦布的绒头纱线设定为特定倾斜角度(对应垂直线Z为26～40°)，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。专利文献6公开了利用离子风使摩擦后的摩擦布除去静电，由此使摩擦布进行除尘，从而降低由于取向不佳引起的表面缺陷。

专利文献1：日本特开2003-329833号公报

专利文献2：日本特开2006-259151号公报

专利文献3：日本特开2006-267919号公报

专利文献4：日本特开2009-003368号公报

专利文献5：日本登录实用新案第3032820号公报

专利文献6：日本特开2009-031735号公报

正如专利文献1～5所述，目前为了防止取向不佳，正在进行摩擦技术的改进。通过摩擦性能的提高，抑制由取向不良引起的表面缺陷，从而可以在制造光学补偿薄膜时降低亮点缺陷。

但是，为了避免取向不佳而采取强行摩擦时，摩擦时出现的尘埃增多，存在尘埃引起的亮点缺陷增加的问题。如专利文献6所述，通过进行摩擦布的除尘，多少可以减少一些由于尘埃引起的亮点缺陷，但不抑制摩擦时的起尘则从根本上没有解决问题。

发明内容

本发明是鉴于上述课题进行的研究，目的在于能够提供一种可以同时解决由于取向不佳引起的亮点缺陷由于和尘埃引起的亮点缺陷这两个问题的的摩擦方法、装置、取向膜以及光学构件的制造方法。

本发明的第一方面，为了实现上述目的，提供了一种摩擦方法，其中，使连续移动的支撑体与随着摩擦用布材卷回而一起旋转的摩擦辊接触，从而用所述摩擦用布材摩擦形成于支撑体的取向膜形成层而形成取向膜，其特征在于，

所述摩擦用布材是在底布组织的经线和纬线组成的基布上织入绒头纱线(パイル糸)而形成的，并且，所述绒头纱线在摩擦时的弯曲度用A和B的比值(B/A)×100表示时，以将该比值设定在60～90％的范围内的状态进行摩擦，其中，A为所述摩擦前的所述绒头纱线的全长，B为对所述绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从所述基布面到所述取向膜形成层面的长度。

本发明者兼顾抑制由于取向不佳引起的亮点缺陷和抑制摩擦时起尘的尘埃引起的亮点缺陷这两种问题，对其对策进行了深入的研究。其结果得到如下结论：通过适当设定卷回到摩擦辊上的摩擦用布材的绒头纱线在摩擦时的弯曲度，可以不发生取向不佳，而且可以显著抑制起尘。

在此，绒头纱线在摩擦时的弯曲度是摩擦前绒头纱线的全长A与对绒头纱线施加摩擦加重时的摩擦中从摩擦用布材的基布面到取向膜形成层面的长度B的比值(B/A)×100，该比值越小，表示弯曲度越大。