[发明专利]传感器、台以及光刻设备无效

专利信息
申请号: 201010202596.5 申请日: 2010-06-11
公开(公告)号: CN101957561A 公开(公告)日: 2011-01-26
发明(设计)人: H·W·M·范布尔;J·T·布洛克惠斯基;V·普洛斯因特索夫;S·范德克拉夫;N·V·德兹沃姆基娜 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 传感器 以及 光刻 设备
【权利要求书】:

1.一种用于浸没系统的传感器,所述传感器包括:

感测装置,配置成感测辐射束的特性;

透明层,配置成允许辐射束通过其中,所述透明层覆盖所述感测装置;和

不透明的图案形成层,其位于透明层和所述感测装置之间,所述图案形成层配置成将图案赋予给所述辐射束,其中开口位于所述图案形成层中并且填充材料位于所述开口内,所述填充材料对辐射束是透明的并且具有与所述透明层的折射率相近的折射率。

2.如权利要求1所述的传感器,其中,所述填充材料位于方向指向所述感测装置的辐射束的路径的部分内。

3.如权利要求1或2所述的传感器,其中,所述填充材料具有与所述透明层相近的热膨胀系数。

4.如前述权利要求中任一项所述的传感器,其中,所述透明层包括双熔融石英。

5.如前述权利要求中任一项所述的传感器,其中,所述透明层具有离开所述感测装置的向外表面,并且所述向外表面对浸没液体是不透过的。

6.如权利要求5所述的传感器,其中,所述向外表面具有疏水涂层。

7.如权利要求6所述的传感器,其中,所述疏水涂层在所述表面的位于方向指向所述感测装置的辐射束的路径内的部分处是基本上不存在的。

8.如前述权利要求中任一项所述的传感器,包括另一透明层,其位于所述感测装置和所述图案化层之间。

9.如前述权利要求中任一项所述的传感器,其中,至少沿辐射束的路径,所述传感器是全固态材料。

10.如前述权利要求中任一项所述的传感器,其中,所述传感器是主动传感器,例如传输图像传感器、剂量传感器、透镜干涉仪或斑点传感器。

11.一种光刻设备,包括如权利要求1到10中任一项所述的传感器。

12.一种用于浸没系统的感测部件,所述感测部件包括:

透明层,配置成允许辐射束通过其中;和

图案形成层,配置成将图案赋予所述辐射束并由所述透明层覆盖,

其中开口位于所述图案形成层中,在所述开口内布置填充材料,所述填充材料对辐射束是透明的并且具有与所述透明层的折射率相近的折射率。

13.如权利要求12所述的感测部件,其中,所述图案形成层是反射性的,以引导所述辐射束返回通过所述透明层。

14.如权利要求1到10中任一项所述的传感器或权利要求12或13所述的感测部件,其中所述填充材料与所述透明层的材料相同。

15.一种用于浸没系统的传感器,所述传感器包括:

感测装置,配置成感测辐射束的特性;

透明层,配置成允许辐射束通过其中;和

图案形成层,位于所述透明层和所述感测装置之间,所述图案形成层配置成将图案赋予所述辐射束,

其中所述透明层具有离开感测装置的表面,并且该表面是基本上平的,并且疏液涂层位于所述表面上。

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