[发明专利]一种玻璃衬底绒面结构ZnO薄膜及应用

权利要求书

1.一种玻璃衬底绒面结构ZnO薄膜，其特征在于：利用磁控溅射技术制备，以玻璃为衬底，衬底温度为(200～280)℃，以Zn-Al合金靶和O₂为原材料，其中Zn组分纯度为99.99％，掺杂剂Al组分的重量百分比含量为(0.5～3.0)％，背景真空度为8×10^-5Pa，溅射气压为(2.5～7.5)mTorr，其中氧气流量为2～30sccm，在玻璃衬底上直接生长绒面结构ZnO薄膜，薄膜厚度(900～1500)nm，薄膜结构为glass/绒面ZnO薄膜。

2.一种如权利要求1所述玻璃衬底绒面结构ZnO薄膜的制备，其特征在于：采用磁控溅射镀膜装置，该装置为密封结构，由溅射室和样片室构成，溅射室和样片室之间设有闸板阀控制其通断；溅射室内装置有加热器、衬底、等离子体检测源、一个离子源和两个磁控溅射源，等离子体检测源与容器外的等离子体发射谱控制器(PEM)连接，一个离子源和两个磁控溅射源分别与容器外的三个电源连接，溅射室设有两个抽真空口；样片室内设有放置样片的层式样片架，样片架通过升降装置进行切换，样片架上的样片通过推拉杆送入溅射室中的衬底上，样片室设有一个抽真空口。

3.一种如权利要求1所述玻璃衬底绒面结构ZnO薄膜德应用，其特征在于：应用于pin型a-Si薄膜太阳电池或a-Si/uc-Si叠层薄膜太阳电池。