[发明专利]一种分离膜制备方法无效

专利信息
申请号: 201010194185.6 申请日: 2010-06-08
公开(公告)号: CN102274695A 公开(公告)日: 2011-12-14
发明(设计)人: 吕晓龙 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: B01D71/36 分类号: B01D71/36;B01D67/00;C08L27/18;C08L27/16;B01D69/12
代理公司: 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 代理人: 郑永康
地址: 300160*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 分离 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种聚四氟乙烯分离膜,其特征在于:分离膜壁厚0.05~1mm,孔隙率30~80%,膜分离孔径0.1~10微米,纯水透水通量为600~20000L/m2·h0.10MPa,25℃。

2.如权利要求1所述的分离膜,其特征在于:制备该分离膜的铸膜液中包括聚四氟乙烯和聚偏氟乙烯材料,聚四氟乙烯为25~45wt%,聚偏氟乙烯为3~10wt%,能溶解聚偏氟乙烯的溶剂为50~67wt%,上述质量百分比都以铸膜液总重量为基准,将上述铸膜液通过溶液相转移法制备得到分离膜,铸膜液混合物中聚四氟乙烯与聚偏氟乙烯的重量比例范围为5∶1~15∶1。

3.如权利要求2或3所述的分离膜,其特征在于,制备亲水性分离膜,铸膜液中包括亲水性有机高分子、表面活性剂、低分子化合物和无机添加剂中的至少一种;制备疏水性分离膜,铸膜液中包括低分子化合物和无机添加剂中的至少一种;亲水性有机高分子为0~10wt%,表面活性剂为0~5wt%,低分子成孔剂为0~10wt%和无机添加剂总量为1~10wt%;以上重量百分比以铸膜液总重量为基准。

4.如权利要求4所述的分离膜,其特征在于,所述的能溶解聚偏氟乙烯的溶剂为二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、磷酸三乙酯、环丁砜、二甲基亚砜的一种或几种;亲水性有机高分子为下述物质的一种或多种的混合物:聚乙二醇、聚氧乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇和甲基纤维素;表面活性剂为十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、十六烷基三甲基溴化铵、仲辛醇聚氧乙烯醚、十二烷基氨基磺酸钠、含氟表面活性剂、土温-20、土温-80;低分子化合物为水、乙二醇、丙二醇、丁二醇、二氧六环的一种或多种;无机添加剂为硝酸锂、氯化钠、碳酸钙、氧化钙、二氧化硅、三氧化二铝的一种或多种。

5.如权利要求4或5所述的分离膜,其特征在于,聚四氟乙烯为30~40wt%,聚偏氟乙烯为3.7~8wt%,溶剂为55~63wt%,,亲水性有机高分子为0~5wt%,低分子化合物为1~5wt%和无机添加剂为0~8wt%。

6.如权利要求2~6所述任一项权利要求所述的分离膜,其特征在于,

7.制备权利要求1~7所述分离膜的方法,其特征在于:铸膜液中的所有组分混合或分散均匀后,使铸膜液混合物中的聚偏氟乙烯附着在聚四氟乙烯微粒表面后再凝固,从而使聚四氟乙烯微粒被粘接,构成分离膜主体。

8.一种制备分离膜的方法,其特征在于:制备疏水性分离膜时,根据权利要求7的制备方法一次成膜后,在已形成的膜上进行二次涂覆,二次涂覆液中聚四氟乙烯与聚偏氟乙烯的比例为10∶1~20∶1。

9.如权利要求7或8的制备分离膜的方法,其特征在于:根据权利要求7或8的方法制膜后,再对膜进行拉伸后处理。

10.如权利要求7或8的制备分离膜的方法,其特征在于:根据权利要求7或8的方法制膜后,再对膜进行加热后处理,热处理温度170~250℃,热处理时间1~10分钟。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津工业大学,未经天津工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010194185.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top