[发明专利]显影方法无效
| 申请号： | 201010192500.1 | 申请日： | 2010-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN102269939A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 任亚然;安辉 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/32 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显影 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种显影方法，包括：
提供晶片，所述晶片上形成有光敏材料层；
显影液喷嘴从原始位置移至所述晶片表面上方喷洒第一显影液；
所述显影液喷嘴移回至所述原始位置；
向所述显影液喷嘴喷洒第二显影液，以清洗所述显影液喷嘴。
2.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于，所述第一显影液为氢氧化四甲胺水溶液。
3.如权利要求2所述的显影方法，其特征在于，所述第一显影液中氢氧化四甲胺的浓度为2.38％。
4.如权利要求3所述的显影方法，其特征在于，所述第二显影液为氢氧化四甲胺水溶液。
5.如权利要求4所述的显影方法，其特征在于，所述第二显影液中氢氧化四甲胺的浓度与所述第一显影液中氢氧化四甲胺的浓度相同。
6.如权利要求4所述的显影方法，其特征在于，所述第二显影液中氢氧化四甲胺的浓度小于所述第一显影液中氢氧化四甲胺的浓度。
7.如权利要求6所述的显影方法，其特征在于，所述第二显影液中氢氧化四甲胺的浓度在0.5％至2.38％之间。
8.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于，向所述显影液喷嘴喷洒第二显影液的时间大于20秒。
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