[发明专利]半反半透型显示装置及其阵列基板的制造方法

权利要求书

1.一种半反半透型显示装置，其包括阵列基板、彩膜基板、以及设置于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层，所述阵列基板包括透明基板，以及形成于所述透明基板上的薄膜晶体管及其布线、保护层、电极层，所述保护层形成于所述薄膜晶体管及其布线之上，其用于保护所述薄膜晶体管及其布线，所述电极层形成于所述保护层之上，其特征在于：所述阵列基板分为透射区和反射区，在所述反射区中，所述阵列基板的电极层之上还形成有平坦层，所述平坦层由反射材料和有机材料的混合物经过涂布、曝光、显像工艺形成。

2.如权利要求1所述的半反半透型显示装置，其特征在于：反射材料为金属银或铝或其合金。

3.如权利要求1所述的半反半透型显示装置，其特征在于：所述有机材料为聚酰亚胺或丙烯酸，或其混合物。

4.如权利要求1所述的半反半透型显示装置，其特征在于：所述电极层由透明导电材料制成。

5.如权利要求1所述的半反半透型显示装置，其特征在于：所述反射区与所述彩膜基板之间的液晶层厚度为所述透射区与所述彩膜基板之间厚度的一半。

6.一种半反半透型显示装置的阵列基板的制造方法，包括如下步骤：

提供一透明基板；

在透明基板上形成薄膜晶体管及其布线，并在薄膜晶体管及其布线上形成保护层和电极层；

将由反射材料和有机材料制成的胶状物质涂布于所述保护层之上，并对其进行预烘烤，使其成型；

通过一预设图形的掩膜对所述成型的胶状物进行曝光，并对曝光完成的胶状物进行显像处理，形成一平坦层；

对所述平坦层进行后烘烤，使其硬化。

7.如权利要求6所述的半反半透型显示装置的阵列基板的制造方法，其特征在于：所述反射材料为金属银或铝或其合金。

8.如权利要求6所述的半反半透型显示装置的阵列基板的制造方法，其特征在于：所述平坦层将所述阵列基板分为反射区和透射区。