[发明专利]光学元件亚表面缺陷的检测装置及其方法

权利要求书

1.光学元件亚表面缺陷的检测装置，包括显微镜(1)、精密位移平台(3)、与显微镜(1)连接的图像数据处理单元(4)，其特征在于：在所述图像数据处理单元(4)上还连接有激光位移传感器(2)，所述激光位移传感器(2)用于测量精密位移平台(3)在Z方向的移动量。

2.如权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷的检测装置，其特征在于：所述显微镜(1)具有高倍率大数值孔径的镜头和低倍率宽视场的镜头。

3.如权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷的检测装置，其特征在于：所述激光位移传感器(2)具有亚微米级以上的测量精度。

4.如权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷的检测装置，其特征在于：所述精密位移平台(3)可在X和Z方向上移动，且X和Z方向上移动精度分别为亚毫米级和微米级以上。

5.如权利要求1所述的光学元件亚表面缺陷的检测装置，其特征在于：所述图像数据处理单元(4)采用PC机。

6.光学元件亚表面缺陷的检测方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：

1)先将研磨后的样品(5)进行局部抛光蚀刻；

2)将样品(5)放置在精密位移平台(3)上，采用显微镜(1)的低倍率宽视场的镜头确定初始的观测区域；

3)换用高倍率大数值孔径的镜头进行观测，移动精密位移平台(3)使样品(5)在X方向水平移动，使高倍率大数值孔径的镜头对样品(5)从研磨区域逐渐扫描至抛光区域；

4)当高倍率大数值孔径的镜头移至所需测量的区域时，沿Z方向调节精密位移平台(3)，使显微镜(1)的高倍率大数值孔径的镜头聚焦于所测量区域，同时利用激光位移传感器(2)记录精密位移平台(3)在Z方向的位移，此位移即为被观测区域相对于初始观测位置的深度，如果此区域具有亚表面缺陷，那么此位移即为观测区域亚表面缺陷的深度，同时通过显微镜(1)观测此位置的亚表面缺陷形貌，一次性得到不同深度下亚表面缺陷的形貌和深度信息。