[发明专利]化学机械抛光液和抛光方法有效

专利信息
申请号: 201010189611.7 申请日: 2010-06-02
公开(公告)号: CN101870851A 公开(公告)日: 2010-10-27
发明(设计)人: 许雪峰;彭伟;姚春燕;胡建德 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;B24B29/00
代理公司: 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 代理人: 王晓峰
地址: 310014*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 化学 机械抛光 抛光 方法
【权利要求书】:

1.一种化学机械抛光液,包括液体,液体中分布有复合磨粒,其特征在于,所述复合磨粒由大颗粒磁性聚合物粒子外面依附小粒径磨料构成,所述磁性聚合物粒子由聚合物材料包裹磁性材料构成。

2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述磁性聚合物粒子是核为磁性材料、壳为聚合物材料的磁性聚合物粒子或者是内外层为聚合物材料、中间层为磁性材料的磁性聚合物粒子。

3.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述磨料为胶态二氧化硅粒子。

4.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述聚合物材料为聚苯乙烯、苯乙烯类共聚物、甲基丙烯酸树脂、甲基丙烯酸类共聚物以及具有这些交联结构的共聚物。

5.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述磁性材料为形状为球形、粒径5~200nm的Fe3O4磁性粒子。

6.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述复合磨粒是由磨料和磁性聚合物粒子在液体中通过静电力互相吸附形成。

7.一种化学机械抛光方法,其特征在于,采用如权利要求1至6中任一项所述的化学机械抛光液,利用辅助磁场将复合磨粒把持在软质抛光垫或者硬质抛光器表面,对抛光材料的被抛光面进行抛光。

8.根据权利要求7所述的一种化学机械抛光方法,其特征在于,所述软质抛光垫或硬质抛光器的转速为20~200rpm,所述抛光材料被施加0.5~100kPa的抛光压力。

9.根据权利要求8所述的一种化学机械抛光方法,其特征在于,所述辅助磁场设置在抛光区域,磁场由永磁体产生或者由电磁发生装置产生。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学,未经浙江工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010189611.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top