[发明专利]化学机械抛光液和抛光方法有效
申请号: | 201010189611.7 | 申请日: | 2010-06-02 |
公开(公告)号: | CN101870851A | 公开(公告)日: | 2010-10-27 |
发明(设计)人: | 许雪峰;彭伟;姚春燕;胡建德 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;B24B29/00 |
代理公司: | 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 | 代理人: | 王晓峰 |
地址: | 310014*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械抛光 抛光 方法 | ||
1.一种化学机械抛光液,包括液体,液体中分布有复合磨粒,其特征在于,所述复合磨粒由大颗粒磁性聚合物粒子外面依附小粒径磨料构成,所述磁性聚合物粒子由聚合物材料包裹磁性材料构成。
2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述磁性聚合物粒子是核为磁性材料、壳为聚合物材料的磁性聚合物粒子或者是内外层为聚合物材料、中间层为磁性材料的磁性聚合物粒子。
3.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述磨料为胶态二氧化硅粒子。
4.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述聚合物材料为聚苯乙烯、苯乙烯类共聚物、甲基丙烯酸树脂、甲基丙烯酸类共聚物以及具有这些交联结构的共聚物。
5.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述磁性材料为形状为球形、粒径5~200nm的Fe3O4磁性粒子。
6.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光液,其特征在于,所述复合磨粒是由磨料和磁性聚合物粒子在液体中通过静电力互相吸附形成。
7.一种化学机械抛光方法,其特征在于,采用如权利要求1至6中任一项所述的化学机械抛光液,利用辅助磁场将复合磨粒把持在软质抛光垫或者硬质抛光器表面,对抛光材料的被抛光面进行抛光。
8.根据权利要求7所述的一种化学机械抛光方法,其特征在于,所述软质抛光垫或硬质抛光器的转速为20~200rpm,所述抛光材料被施加0.5~100kPa的抛光压力。
9.根据权利要求8所述的一种化学机械抛光方法,其特征在于,所述辅助磁场设置在抛光区域,磁场由永磁体产生或者由电磁发生装置产生。
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