[发明专利]集成微型显示投影及成像系统有效
| 申请号: | 201010182401.5 | 申请日: | 2010-05-18 |
| 公开(公告)号: | CN101943843A | 公开(公告)日: | 2011-01-12 |
| 发明(设计)人: | 河·H·黄 | 申请(专利权)人: | 上海丽恒光微电子科技有限公司 |
| 主分类号: | G03B17/54 | 分类号: | G03B17/54 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明;王申 |
| 地址: | 201203 上海市张江高科*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 集成 微型 显示 投影 成像 系统 | ||
1.一种集成微型显示投影及成像系统(900),其特征在于包括:
可变焦透镜系统(100),具有一主轴(110);
平面偏振分光器(200),面对所述可变焦透镜系统(100),与所述主轴(110)呈45度的夹角;
反射型偏振调制成像器(300),设置于所述平面偏振分光器(200)的第一侧,与所述平面偏振分光器(200)呈45度的反射角;
成像传感器(400),设置于所述平面偏振分光器(200)的第二侧,与所述平面偏振分光器(200)呈45度的成像角;
发光模块(500),用于发出与所述平面偏振分光器(200)呈45度的入射角的准直光;
其中,从所述反射型偏振调制成像器(300)穿过平面偏振分光器(200)到达可变焦透镜系统(100)测量出的投影过程(380)的光通过距离等于从成像传感器(400)穿过平面偏振分光器(200)到达可变焦透镜系统(100)测量出的成像过程(480)的光通过距离。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于进一步包括:后置偏振器(640),设置于所述平面偏振分光器(200)与所述成像传感器(400)之间,该后置偏振器的偏振方向垂直于所述平面偏振分光器(200)。
3.根据权利要求1所述的系统,其特征在于进一步包括:预偏振器(650),设置于所述平面偏振分光器(200)与所述发光模块(500)之间,该预偏振器的偏振方向垂直于所述平面偏振分光器(200)。
4.根据权利要求1所述的系统,其特征在于所述反射型偏振调制成像器(300)为硅基液晶微型显示成像器(310)。
5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于所述反射型偏振调制成像器(300)包括平行设置的四分之一波长减速板(320)及基于微机电系统MEMS的衍射空间光调制成像器(325),与所述平面偏振分光器(200)呈45度的成像角,所述四分之一波长减速板(320)放置在所述衍射空间光调制成像器(325)与所述平面偏振分光器(200)之间。
6.根据权利要求1所述的系统,其特征在于所述可变焦透镜系统(100)进一步包括光圈调整器(120),用于调整穿过可变焦透镜系统(100)最终到达成像传感器(400)的成像过程的光感及从反射型偏振调制成像器(300)和发光模块(500)穿过可变焦透镜系统(100)的投影过程的光感。
7.根据权利要求2所述的系统,其特征在于所述后置偏振器(640)以薄膜结构集成到成像传感器(400)上。
8.根据权利要求7所述的系统,其特征在于,所述成像传感器(400)包括:
彩色滤光元件(415)的平面阵列(410);
感光像素(425)的平面阵列(420),与所述彩色滤光元件(415)光学对齐,每个所述感光像素(425)包括至少一个光二极管(426),位于半导体基板(409)上。
9.根据权利要求8所述的系统,其特征在于所述后置偏振器(640)粘附于所述彩色滤光元件(415)的平面阵列(410)上。
10.根据权利要求8所述的系统,其特征在于所述后置偏振器(640)为由延长反射金属条(646)制成的线栅偏振器(645),设置在所述彩色滤光元件(415)的平面阵列(410)与所述感光像素(425)的平面阵列(420)之间。
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