[发明专利]稀土连续式沉淀工艺无效
申请号: | 201010178016.3 | 申请日: | 2010-05-20 |
公开(公告)号: | CN101831543A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 张玉良 | 申请(专利权)人: | 宜兴市长江稀土冶炼厂 |
主分类号: | C22B3/04 | 分类号: | C22B3/04;C22B59/00 |
代理公司: | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人: | 徐冬涛 |
地址: | 214216*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 稀土 连续 沉淀 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及一种稀土的沉淀工艺,属于水法冶金(湿法冶金)技术领域。
背景技术
目前传统的稀土传统稀土沉淀工艺采用均相间歇式沉淀方法,通过控制草酸水的过饱和度、料液的浓度和酸度、及反应的温度等条件生产出合乎物性要求的稀土化合物。但由于其生产过程处于间歇操作,在反应开始需要升温,反应结束需要降温,不够节省能源,而且占用生产时间,生产效率很低。并且反应器中的物料瞬间反应浓度和酸度变化很大,造成粒度分布不理想。因为,反应器内相对浓度随着沉淀反应的进行,其浓度越来越低,酸度越来越高。均相沉淀初期,由于相对浓度较高、相对酸度过底,反应时晶核形成速度过快,而晶核生长速度过慢,此时易形成过多的细颗粒也易形成凝聚粒子;而均相沉淀末期,由于相对浓度较低而相对酸度过高,晶核较易生长,形成过多的大颗粒子。从沉淀角度出发,传统的稀土沉淀有很大缺陷。
发明内容
本发明的目的就是针对上述现有技术的不足,提供一种可生产粒度均匀一致、节能、高效的稀土连续式沉淀工艺。
本发明采用的技术方案如下:
一种稀土连续式沉淀工艺,其特征是包括有两只缓冲罐,将料液、沉淀剂连续同流进入至反应器中,反应器中生成的产品先进入至所述两只缓冲罐中的其中一只,当该缓冲罐做满后,将反应器生成的产品接至另一个缓冲罐,并吸取前一缓冲罐中的水,两只缓冲罐的轮换使用,直到其中一只缓冲罐中固体产品够量时,对该只缓冲罐进行清洗,抽干,得最终固体产品,在对一只缓冲罐清洗、抽干的同时,另一只缓冲罐持续接收反应器中出来的产品,实现不间断连续生产。
所述料液的料液酸度为0.25~1.25mol/L,料液浓度为0.2~1.0mol/L,草酸溶液质量浓度为10~20%,反应器内反应温度为10~90℃,搅拌转速为4~20Hz,添加的添加剂体积为料液体积的0~5%,料液在反应器中的停留时间为0.5~25min。
所述料液的料液酸度0.6mol/l,料液浓度为0.8mol/L,料液体积30000L,温度25~35℃,添加的添加剂体积为料液体积的2%。反应器里先放无盐水150L,温度50~55℃。草酸溶液质量浓度为20%,其体积30000L,温度70~80℃。
所述添加剂为聚乙二醇。
所述料液为氯化稀土或硝酸稀土溶液。
所述沉淀剂为草酸水溶液。
本发明的有益效果有:
采用连续式沉淀工艺:一定的料液浓度、酸度、温度,与一定温度的过饱和度草酸水等同流进反应器中。整个反应过程中,不同时间阶段浓度、酸度、温度基本不变,可以生产出D50比较均匀一致的草酸稀土和其灼烧物氧化稀土,整个生产是连续的、动态的、节能的流水线工艺过程,生产效率很高。根据不同的工艺参数,也可以生产不同物性规格(D50:2~18μm)的产品。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步地说明:
连续沉淀器控制D50的方法,主要根据料液的酸度、浓度、草酸过饱和度、反应温度、搅拌速度、沉淀添加剂加量以及停留时间七大因素控制,根据正交试验设计方法,选出控制D50的优化参数。
实施例1:
普通Y+Eu生产工艺沉淀条件:
料液浓度0.8mol/L,料液酸度0.6mol/l,料液体积30000L,温度25~35℃,加添加剂2%。反应器里先放无盐水150L,温度50~55℃。草酸溶液质量浓度20%,其体积30000L,温度70~80℃。搅拌转速为8Hz。
操作流程:
先开草酸水,再开料液阀,反应器中停留时间18min,整个加料时间3000~3500分钟。先做满一个缓冲罐,再做另一个缓冲罐,在间歇时,吸取第一个缓冲罐中的水。反复做一直做到缓冲罐中有折产品(REO)120Kg左右,再进行清冼,抽干。
此条件下,草酸盐灼烧后,中心粒径D50=4.8μm;粒度D<3μm占<5%;粒度D>10μm占<1.5%;(D75-D25)≤2μm,松装比B.D=0.68g/cm3,粒度分布Q.D=0.25为正态分布,比表面SW=6800cm2/g。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宜兴市长江稀土冶炼厂,未经宜兴市长江稀土冶炼厂许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010178016.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:提高射频电路的最高振荡频率的方法
- 下一篇:液晶面板的挡光条和液晶面板