[发明专利]一种双谐振腔与波导的耦合结构

权利要求书

1.一种双谐振腔与波导的耦合结构，其特征在于，该结构包括：

一个衬底；

两个制作于衬底上的谐振腔；以及

一个制作于衬底上且位于两个谐振腔之间的条形输出波导。

2.根据权利要求1所述的双谐振腔与波导的耦合结构，其特征在于，所述谐振腔具有形成谐振的腔体结构。

3.根据权利要求1所述的双谐振腔与波导的耦合结构，其特征在于，所述谐振腔具有一含有有下限制层、有源层和上限制层结构，该结构包括：

一个制作于衬底上的下限制层；

一个制作于下限制层上的有源层，该有源层的形状与下限制层相同；以及

一个制作于有源层上的上限制层，该上限制层的形状与下限制层相同。

4.根据权利要求1所述的双谐振腔与波导的耦合结构，其特征在于，所述条形输出波导为单模波导或多模波导，宽度小于所述谐振腔的半径。

5.根据权利要求1所述的双谐振腔与波导的耦合结构，其特征在于，所述条形输出波导为浅刻蚀输出波导，或者为深刻蚀输出波导。

6.根据权利要求1所述的双谐振腔与波导的耦合结构，其特征在于，所述两个谐振腔结构相同，呈圆柱、圆环或者正方形。

7.根据权利要求1所述的双谐振腔与波导的耦合结构，其特征在于，所述条形输出波导与所述谐振腔相切、相交或具有一定的间隙，间隙的大小需要能够保证谐振腔与波导形成有效耦合。