[发明专利]在压电式喷墨成像鼓上生成柔顺涂层的表面网纹的结构和方法有效
| 申请号: | 201010174784.1 | 申请日: | 2010-04-28 |
| 公开(公告)号: | CN101956195A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
| 发明(设计)人: | 戴维·H·潘;T·埃德温·弗里曼 | 申请(专利权)人: | 施乐公司 |
| 主分类号: | C23F1/02 | 分类号: | C23F1/02 |
| 代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 周文强;李献忠 |
| 地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 压电 喷墨 成像 生成 柔顺 涂层 表面 结构 方法 | ||
1.用于成像系统的成像表面的制备方法,该方法包括
提供金属衬底;
用混合了化学活性填充剂或碱的弹性体层涂覆所述金属衬底,
从而在所述金属衬底上获得涂层;
用能与该涂层表面暴露的填充剂或碱反应的有效浓度的酸蚀刻所述涂层,从而在该涂层表面提供包含水溶性盐的反应产物;并
通过用水性液体洗涤该涂层表面去除所述反应产物,从而在该涂层的表面提供多个凹坑。
2.用于成像系统的成像表面的制备方法,该方法包括
提供金属衬底或具有相对光滑表面的弹性体层衬底,
用光刻胶层涂覆所述衬底,
在UV源和所述光刻胶层之间插入UV掩膜,所述掩膜具有多个预定大小范围的开口,所述掩膜包含不透过UV光线的材料,所述UV光线通过所述掩膜开口,
将所述掩膜暴露至UV光线,从而使得所述UV光线通过所述掩膜开口并进而引起部分光刻胶层分解,
去除被所述UV光线分解的这些光刻胶层部分,
蚀刻所述衬底的所得表面,从而在其表面提供多个凹坑,
去除剩余的光刻胶层,从而提供具有所述多个凹坑的该衬底的表面。
3.构造为能够涂装释放液体的薄膜的定影表面结构,所述表面为具有如下特征的带凹坑表面:
约0.2至约1.5微米的平均粗糙度Ra,
约104至约107个凹坑/cm2的网纹密度,
每个所述凹坑具有大小为约0.5至约5微米的开口,以及
约0.5至约10微米的深度。
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