[发明专利]水溶性三唑类化合物及其合成方法

权利要求书

1.水溶性三唑类化合物，其结构式如下：

式Ia

或

式Ib

或

式Ic

或

式Id

其中，R₁是式Ⅱ基团

式Ⅱ

其中，

x为0～6的整数，y为1～6的整数，M、M′ⁿ⁺或M″ⁿ⁺分别为金属离子，

R₂或R₃分别为H或x’为0～6的整数，

R₄为H、C_1-4的烷基或卤素，

R′为有取代基或无取代基的五元含氮杂环、六元含氮杂环、苯基或氢，其中所述的取代基选自卤素、C_1-4的烷基、氰基或氰基苯基中的一种或几种，

R″为H或C_1-4的烷基。

2.根据权利要求1所述的水溶性三唑类化合物，其特征在于包括该水溶性三唑类化合物的光学活性异构体。

3.根据权利要求1所述的水溶性三唑类化合物，其特征在于R′为H、有取代或无取代的三唑基、有取代或无取代的嘧啶基、有取代或无取代的噻唑基，其中所述的取代基选自卤素、氰基或氰基苯基中的一种或几种。

4.根据权利要求3所述的水溶性三唑类化合物，其特征在于R′为H、1，2，4-三氮唑-1-基、5-氟嘧啶-4-基或4-(4-氰基苯基)-2-噻唑基。

5.根据权利要求1所述的水溶性三唑类化合物，其特征在于R为H或甲基。

6.根据权利要求4或5所述的水溶性三唑类化合物，其特征在于R₁为

7.根据权利要求1所述的水溶性三唑类化合物，其特征在于x为0～4的整数，y为1～3的整数。

8.根据权利要求1所述的水溶性三唑类化合物，其特征在于M、M′ⁿ⁺或M″ⁿ⁺分别为钠离子、钾离子、钙离子或镁离子；R₂或R₃分别为H或x’为0～4的整数。

9.权利要求1所述的水溶性三唑类化合物的合成方法，其特征在于式Ia、式Ib、式Ic或式Id化合物的制备方法如下：

式Ia化合物：

其中X为卤素；

式Ib化合物：

式Ic化合物：

式Id化合物：

其中R₁-H为

10.权利要求1所述的水溶性三唑类化合物在制备治疗真菌感染药物方面的用途。