[发明专利]物镜、光拾取装置及光信息记录再生装置有效

专利信息
申请号: 201010170114.2 申请日: 2010-05-04
公开(公告)号: CN101901607A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 中村健太郎 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
主分类号: G11B7/135 分类号: G11B7/135
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 岳雪兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 物镜 拾取 装置 信息 记录 再生
【权利要求书】:

1.一种物镜,是用于具有射出第1波长λ1之第1光束的第1光源、射出第2波长λ2(λ2>λ1)之第2光束的第2光源、射出第3波长λ3(λ3>λ2)之第3光束的第3光源,且用所述第1光束进行具有厚度为t1之保护基板的第1光盘的信息记录及/或再生、用所述第2光束进行具有厚度为t2(t1<t2)之保护基板的第2光盘的信息记录及/或再生、用所述第3光束进行具有厚度为t3(t2<t3)之保护基板的第3光盘的信息记录及/或再生之光拾取装置的物镜,其特征在于,

所述物镜的光学面至少备有中央区域、所述中央区域周围的中间区域、所述中间区域周围的周边区域,

所述中央区域备有第1光程差付与构造,

所述中间区域备有第2光程差付与构造,

所述物镜将穿过所述中央区域的所述第1光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第1光盘的信息记录面上、将穿过所述中央区域的所述第2光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第2光盘的信息记录面上、将穿过所述中央区域的所述第3光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第3光盘的信息记录面上,

所述物镜将穿过所述中间区域的所述第1光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第1光盘的信息记录面上、将穿过所述中间区域的所述第2光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第2光盘的信息记录面上、不将穿过所述中间区域的所述第3光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第3光盘的信息记录面上,

所述物镜将穿过所述周边区域的所述第1光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第1光盘的信息记录面上、不将穿过所述周边区域的所述第2光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第2光盘的信息记录面上、不将穿过所述周边区域的所述第3光束能够信息记录及/或再生地聚光于所述第3光盘的信息记录面上,

所述第1光程差付与构造是至少重合第1基础构造和第2基础构造的构造,

所述第1基础构造使穿过所述第1基础构造的第1光束的X次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量、使穿过所述第1基础构造的第2光束的Y次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量、使穿过所述第1基础构造的第3光束的Z次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量,所述第2基础构造使穿过所述第2基础构造的第1光束的L次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量、使穿过所述第2基础构造的第2光束的M次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量、使穿过所述第2基础构造的第3光束的N次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量,

所述第2光程差付与构造是至少重合第3基础构造和第4基础构造及第5基础构造的构造,

所述第3基础构造使穿过所述第3基础构造的第1光束的A次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量、使穿过所述第3基础构造的第2光束的B次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量,

所述第4基础构造使穿过所述第4基础构造的第1光束的D次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量、使穿过所述第4基础构造的第2光束的E次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量,

所述第5基础构造使穿过所述第5基础构造的第1光束的0次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量、使穿过所述第5基础构造的第2光束的0次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量、使穿过所述第5基础构造的第3光束的G次的衍射光量大于其他任何次数的衍射光量,

X、Y、Z、L、M、N、A、B、D及E是整数,G是0以外的整数,满足下式:

X=A    (15)

Y=B    (16)

L=D    (17)

M=E    (18)。

2.如权利要求1中记载的物镜,其特征在于,满足下式:

G=±1  (23)。

3.如权利要求1中记载的物镜,其特征在于,所述第5基础构造是2级阶梯型构造。

4.如权利要求3中记载的物镜,其特征在于,所述2阶梯型构造具有对所述第1光束给出所述第1波长λ1的5波长分的光程差的台阶。

5.如权利要求3中记载的物镜,其特征在于,所述2阶梯型构造具有对所述第1光束给出所述第1波长λ1的3波长分的光程差的台阶。

6.如权利要求3中记载的物镜,其特征在于,所述2级阶梯型构造的上部平台面上,具有单个所述第4基础构造和多个所述第3基础构造的台阶。

7.如权利要求3中记载的物镜,其特征在于,所述第5基础构造的最小齿距在10μm以上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达精密光学株式会社,未经柯尼卡美能达精密光学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010170114.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top