[发明专利]溅镀装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种溅镀技术，尤其涉及一种溅镀装置。

背景技术

溅镀是一种物理气相沉积技术，溅镀原理是在真空环境下，利用辉光放电或离子束产生的高能等离子体撞击耙材，以动量转移方式将耙材内的原子从耙材上轰击出来而沉积在基板上形成薄膜。由于溅镀可以达成较佳的沉积效率、精确的成份控制，以及较低的制造成本，因此已广泛应用于工业中各种金属和非金属膜层的制作。

在进行反应性溅镀时，要向溅镀腔体内通入多种反应性气体，一般地，先将该多种反应气体通入一个腔体内进行混合，然后再通过一个气体管道将混合后的反应气体通入溅镀腔体内，同时也需要不断地从该溅镀腔体中抽气出来。而由于抽气口设置的位置或抽气速度过快等各种不同的因素容易导致反应不完全情况发生，从而影响镀膜品质。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种能够在反应性溅镀过程中使反应气体完全反应的溅镀装置。

一种溅镀装置，其包括一个溅镀腔体、一个设置于该溅镀腔体内的固定架、多个设置于该固定架上且用于悬挂待镀工件的料杆及一个位于该溅镀腔体内的进气装置。该进气装置包括一个进气管及与该多个料杆对应设置的多个导气管。每个导气管包括一个与该进气管连通的进气端及一个与该进气端相对的封闭端。每个导气管在该进气端和该封闭端之间设有多个气孔。

与现有技术相比，上述溅镀装置，通过进气装置的导气管将反应性气体通入到料杆附近，使溅镀腔体内未完全反应的气体与从该导气管通入的气体反应完全，避免了由各种因素导致的反应不完全情况的发生，使得反应气体能够完全反应，从而保证镀膜品质。

附图说明

图1为本发明实施例提供的溅镀装置的立体分解图。

图2为图1中的进气装置的结构示意图。

图3为图1中的溅镀装置的部分组装示意图。

图4为图1中的溅镀装置的立体组装图。

主要元件符号说明

溅镀装置      10

溅镀腔体      11

进气口        111

出气口        112

料杆          12

悬挂架        121

固定架        13

上承载盘      131

下承载盘      132

支撑杆        133

进气装置      14

固持架        141

通气管        141a

支撑部        141b

导气管        141c

进气端        141d

封闭端        141e

气孔          141f

侧壁          141g

进气管        142

分流管        143

具体实施方式

为了对本发明的溅镀装置做进一步的说明，举以下实施方式并配合附图进行详细说明。

请参阅图1及图4，为本发明提供的一种溅镀装置10包括一个溅镀腔体11、四个料杆12、一个固定架13及一个进气装置14。

该溅镀腔体11为空心圆柱体，其用来对待镀工件(图未示)进行溅镀。该溅镀腔体11上设有一个用来通入反应气体的进气口111和一个用来抽气的出气口112。

该料杆12为柱状杆体，在该料杆12上间隔设有用于悬挂该待镀工件的悬挂架121。其中，该料杆12的数量可以根据具体情况而定。

该固定架13包括相对设置的一个环状上承载盘131及一个环状下承载盘132，在该上承载盘131及该下承载盘132之间还设置有四个支撑杆133以对其进行支撑固定，该多个料杆12间隔且可转动地设置于该上承载盘131和该下承载盘132之间。该料杆12设置于该上承载盘131和该下承载盘132之间的结构可以任意，只要保证该料杆12可以相对于该上承载盘131和该下承载盘132转动即可。

请结合图2及图3，该进气装置14包括一个固持架141、一个进气管142及四个分流管143。

该固持架141设置于该固定架13内侧，该固持架141包括相对设置的一个环状通气管141a、一个环状支撑部141b及四个导气管141c。

该进气管142为中空管状，其截面形状不限。该进气管142通过该四个分流管143与通气管141a连通。