[发明专利]一种稳定的高比表面积硼硅溶胶的制备方法

权利要求书

1.一种稳定的高比表面积硼硅溶胶的制备方法，它包括以下步骤：

(1)酸化：将SiO₂质量百分含量为1％～10％的水玻璃和硼盐按硅原子和硼原子的质量之比为6～40∶1混合后，再过强酸性阳离子交换树脂柱或直接和强酸性阳离子交换树脂混合搅拌处理，去除金属离子得到稀硼硅酸；

(2)碱化：将(1)中得到的稀硼硅酸加入到碱中得到硼硅溶胶；

(3)熟化：将(2)中得到的硼硅溶胶在20～70℃下反应0.5～6h得熟化的硼硅溶胶；

(4)稳定处理：将(3)中熟化的硼硅溶胶用强酸性阳离子交换树脂处理至pH为7.0～8.5，再加入稳定剂调节硼硅溶胶的pH为9～10.0；

(5)净化浓缩：将(4)中稳定处理的硼硅溶胶进行超滤得到净化硼硅溶胶，再超滤浓缩至SiO₂质量百分含量为10～20％，或者采用蒸馏的方法将净化硼硅溶胶浓缩至SiO₂质量百分含量为10～20％；

(6)胶体的保护稳定：在(5)中浓缩硼硅溶胶中加入溶胶质量0.005％～0.1％的胶体保护剂，搅拌均匀即得稳定的高比表面积硼硅溶胶。

2.根据权利要求1所述的一种稳定的高比表面积硼硅溶胶的制备方法，其中步骤(2)中所述的碱为水玻璃、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、氨水、硼盐或其混合物。

3.根据权利要求1或2所述的一种稳定的高比表面积硼硅溶胶的制备方法，其中所述的硼盐为硼酸钠、硼酸钾、偏硼酸钾、四硼酸钾、硼酸铵、硼酸、氧化硼、过硼酸钠、偏硼酸钠、偏硼酸钡或硼酸锰中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的一种稳定的高比表面积硼硅溶胶的制备方法，其中所述的稳定剂为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、十二烷基三甲基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵、LiOH、一乙醇胺、二乙醇胺或三乙醇胺中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的一种稳定的高比表面积硼硅溶胶的制备方法，其中所述的胶体保护剂为多糖的羧甲基、羧丙基、羧丁基、磺乙基和磺丙基的钾盐或钠盐，以及海藻酸钠盐或钾盐、聚丙烯酸钠盐或钾盐、聚乙烯醇、聚乙二醇、直链淀粉中的一种或几种。

6.根据权利要求5所述的一种稳定的高比表面积硼硅溶胶的制备方法，其中所述的多糖为半纤维素、纤维素、淀粉、瓜耳胶、壳聚糖或甲壳素。