[发明专利]反射型TFT液晶显示器及其制造方法

权利要求书

1.一种反射型TFT液晶显示器，包括下基板、驱动部件层、液晶层和上基板，驱动部件层设置在下基板的上表面，液晶层设置在驱动部件层与上基板之间，液晶层与驱动部件层之间具有一个反射面，其特征是：还包括吸光层，吸光层设置在驱动部件层与反射面之间。

2.如权利要求1所述的反射型TFT液晶显示器，其特征是：还包括像素电极层、下定向层、上定向层、公共电极层和偏振片，下基板、驱动部件层、吸光层、像素电极层、下定向层、液晶层、上定向层、公共电极层、上基板和偏振片依序叠合设置，像素电极层的上表面构成反射面。

3.如权利要求2所述的反射型TFT液晶显示器，其特征是：所述吸光层的表面呈凹凸不平的形状，处于吸光层之上的像素电极层相应呈凹凸不平的形状。

4.如权利要求1所述的反射型TFT液晶显示器，其特征：还包括反射层、光学介质层、像素电极层、下定向层、上定向层、公共电极层和偏振片，下基板、驱动部件层、吸光层、反射层、光学介质层、像素电极层、下定向层、液晶层、上定向层、公共电极层、上基板和偏振片依序叠合设置，像素电极层覆盖反射层，反射层的上表面构成反射面。

5.如权利要求4所述的反射型TFT液晶显示器，其特征：所述吸光层的表面呈凹凸不平的形状，处于吸光层上表面的反射层相应呈凹凸不平的形状。

6.如权利要求4或5所述的反射型TFT液晶显示器，其特征：所述光学介质层为具有彩色滤光作用的彩色滤光层，彩色滤光层覆盖反射层。

7.一种反射型TFT液晶显示器的制造方法，其特征是包括如下步骤：

步骤一、在下基板上设置驱动部件层；

步骤二、采用黑色感光树脂在驱动部件层的上面旋涂形成吸光层，并通过曝光显影工艺进行曝光显影，在漏极延伸部分所在位置的吸光层形成过孔；

步骤三、在吸光层的上面，采用溅射法沉积像素电极层，并采用掩膜光刻技术对其图形化形成像素电极，像素电极通过吸光层过孔电连接相应的漏极；

步骤四、在像素电极层的上面依序叠合设置下定向层、液晶层、上定向层、公共电极层、上基板和偏振片。

8.一种反射型TFT液晶显示器的制造方法，其特征是包括如下步骤：

步骤一、通过现有的TFT阵列技术在下基板上设置驱动部件层；

步骤二、采用黑色感光树脂在驱动部件层的上面旋涂形成吸光层，并通过曝光显影工艺对漏极延伸部分所在位置的吸光层进行曝光显影，形成过孔；

步骤三、在吸光层的上面，采用溅射法沉积反射层，并采用掩膜光刻技术将其图形化形成反射块以及反射层上的开口；

步骤四、采用感光树脂涂布的方式在反射层上设置光学介质层，并采用曝光显影工艺形成光学介质层上的过孔；

步骤五、在光学介质层的上面，采用溅射法沉积像素电极层，并采用掩膜光刻技术对其图形化形成像素电极，像素电极通过吸光层和光学介质层的过孔电连接相应的漏极；

步骤六、在像素电极层的上面依序叠合设置下定向层、液晶层、上定向层、公共电极层、上基板和偏振片。

9.如权利要求8所述反射型TFT液晶显示器的制造方法，其特征是：在步骤二中采用的曝光方法为灰度曝光法，使吸光层的表面呈凹凸不平的形状。

10.如权利要求8或9所述反射型TFT液晶显示器的制造方法，其特征是：在步骤四中，设置光学介质层的具体做法是：选取第一种颜色的负性光敏彩色树脂，涂布在反射层上，并曝光显影形成第一彩色滤光层及过孔的延伸部分；选取第二种颜色的负性光敏彩色树脂，涂布在反射层上，并曝光显影形成第二彩色滤光层及过孔的延伸部分；选取第三种颜色的负性光敏彩色树脂，涂布在反射层上，并曝光显影形成第三彩色滤光层及过孔的延伸部分；形成的光学介质层为彩色滤光层，彩色滤光层覆盖反射层。