[发明专利]靶材基座及采用该靶材基座的镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种靶材基座及采用该靶材基座的镀膜装置。

背景技术

现有的真空镀膜技术一般是通过高压电极发射Ar⁺粒子，Ar⁺粒子在真空室内撞击靶材，使得靶材分离出金属原子，金属原子被打到被镀物体的表面上而形成膜层。然而，由于靶材原子向多个方向溅射，如果在同一个真空腔内设置多个不同材料的靶材，将会使得靶材相互污染，从而影响镀膜质量。为了避免靶材之间的污染，在同一个真空腔中通常只设置一种靶材。然而，镀多层膜时，每次需要打开真空腔更换靶材，效率低下，且容易使靶材被空气氧化。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种能够避免靶材受污染的靶材基座及采用该靶材基座的镀膜装置。

一种靶材基座，用于一镀膜装置。该靶材基座包括：基台，固定在该镀膜装置内；旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在多个靶座上，所述旋转轴与一旋转马达连接且均收容在收纳空间内，所述旋转马达用于控制该旋转轴带动该靶材部件收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出。

一种镀膜装置，其包括：屏蔽罩，其内形成有一真空腔体；以及靶材基座，其设置在该真空腔体内。该靶材基座包括：基台，固定在该真空腔体内；旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在多个靶座上，所述旋转轴与一旋转马达连接且均收容在收纳空间内，所述旋转马达用于控制该旋转轴带动该靶材部件收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出。

与现有技术相比，本发明的靶材基座以及使用该靶材基座的镀膜装置，通过在靶材基座上开设收纳空间，并将靶材活动连接在靶材基座上，从而能够控制靶材在镀膜时从收纳空间中伸出以进行镀膜，且在镀膜结束后重新收容在收纳空间内。在镀多层膜时，该靶材基座能够避免靶材之间的污染，且由于能够同时装设多个不同材料的靶材，避免镀不同的膜层时均需要打开真空，从而能够提高工作效率。

附图说明

图1为本发明实施方式提供的靶材基座的立体分解图；

图2为图1的靶材基座的立体组装图；

图3为图1的靶材基座的工作状态图；

图4为本发明实施方式提供的的镀膜装置的平面剖示图。

主要元件符号说明

靶材基座        10

镀膜装置        100

屏蔽罩          101

底壁            103

侧壁            105

腔体            107

基台            110

收容槽          111

阶梯面          115

旋转载台        120

自转载台        122

致动部          124

靶座            130

收纳空间        132

轴孔            134

靶材部件        140

靶材        141

靶材基板    142

旋转轴      144

旋转马达    146

控制装置    148

操作开关    148a

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步的详细说明。

如图1、2所示，本发明实施方式提供一种靶材基座10，其用于一镀膜装置100(请参阅图4)中。该靶材基座10包括收容在镀膜装置100内的基台110、旋转载台120、多个靶座130以及多个靶材部件140，所述旋转载台120以及多个靶座130设置在基台110上，旋转载台120可相对基台110以及靶座130旋转，多个靶材部件140分别设置在多个靶座130上。

具体的，所述镀膜装置100包括一屏蔽罩101，所述屏蔽罩101具有一底壁103以及多个侧壁105，所述底壁103以及多个侧壁105之间形成一腔体107，所述基台110固定在该底壁103上且收容于该腔体107内。