[发明专利]电子束胶光掩模板的去胶方法及其装置

权利要求书

1.一种电子束胶光掩模板的去胶装置，其特征在于：包括外槽体(2)、内槽体(3)、托架(5)以及支座(9)、驱动气缸(15)和机座(11)，安装在机座(11)底部的驱动气缸(15)其活塞杆通过联板(14)与驱动连杆(12)连接，驱动连杆(12)与支座(9)的连接座(9-1)固定连接；所述的外槽体(2)安装在机座(11)的顶部，外槽体(2)沿槽壁四周的上部安装有喷口向下倾斜的上喷嘴(1)、底板上有排液流道(2-1)；所述的内槽体(3)通过支承架(20)安装在外槽体(2)内，内槽体(3)底部具有开口；所述托架(5)的托盘(5-1)设置在内槽体(3)内，且呈内凹形或平板形的托盘(5-1)底面有与内槽体(3)密封的环形凸筋(5-6)，托盘(5-1)下部的托座(5-5)穿出内槽体(3)的开口与支座(9)密封连接，托盘(5-1)上设有用于支承光掩模板的两个以上凸起的支承座(5-2)，托盘(5-1)上的药液下出口(5-8)和周边的两个以上药液侧出口(5-7)分别与托架(5)内的药液流道(5-4)相通，托架(5)的水道(5-3)出口安装有下喷嘴(21)，托架(5)内的水道(5-3)和上喷嘴(1)分别与水管连接；所述支座(9)包括上部的药液混合腔(9-3)、下部的连接座(9-1)以及设置在支座(9)上两个独立与药液混合腔(9-3)相通的进药孔(9-2)，各进药孔(9-2)的出口安装有单向阀(17)、进口与药液管道(16)连接，支座(9)上的药液混合腔(9-3)与托架(5)的药液流道(5-4)相通，套在支座(9)外侧的柔性密封套(7)两侧分别密封连接在外槽体(2)和托架(5)的托座(5-5)上。

2.根据权利要求1所述的电子束胶光掩模板的去胶装置，其特征在于：所述托架(5)的托座(5-5)和外槽体(2)的底板上分别安装有连接件(6)，柔性密封套(7)两侧分别通过连接件(6)与外槽体(2)的底板和托架(5)的托座(5-5)密封连接。

3.根据权利要求1所述的电子束胶光掩模板的去胶装置，其特征在于：所述的机座(11)上还安装有过渡板(10)，外槽体(2)通过过渡板(10)与机座(11)连接。

4.根据权利要求1所述的电子束胶光掩模板的去胶装置，其特征在于： 所述驱动气缸(15)两个以上并安装在机座(11)上，机座(11)上分别安装有导套(13)，安装在联板(14)上的驱动连杆(12)设置在导套(13)内。

5.使用根据权利要求1所述的电子束胶光掩模板的去胶装置的去胶方法，其特征在于：(1)、将光掩模板平放在托盘的支承座上，驱动气缸带动托架下移将托盘压在内槽体上；(2)、将加热至50～120℃的浓硫酸与过氧化氢按体积比以2～12∶1在支座的药液混合腔内混合，并注入至内槽体内，当药液淹没光掩模板后，停止药液注入，将光掩模板浸泡1～10分钟，去除光掩模板表面的光刻胶；(3)、驱动气缸作上下往复运动带动驱动连杆使支座和托架上下移动，并开启设置在外槽体周壁上的上喷嘴以及设置在托盘上的下喷嘴，用去离子水冲洗光掩模板的上下两面1～10分钟，同时内槽体内的液体通过外槽体底板上的排液流道排出。

6.根据权利要求5所述的去胶方法，其特征在于：所述浓硫酸在线加热至60～90℃，浓硫酸与过氧化氢的体积比按4～8∶1混合，光掩模板在药液中浸泡时间为3～6分钟，用去离子水冲光掩模板的上下两面5～8分钟。