[发明专利]光学系统、投影系统及微结构半导体部件的制造方法

权利要求书

1.一种光学系统，包含光轴或由传过所述光学系统的光束的方向给定 的优选方向，所述光学系统包含由坐标系统的坐标描述的偏振调制光学元 件，其中所述坐标系统的一个优选坐标平行于所述光轴或平行于所述优选方 向，所述偏振调制光学元件包含旋光材料和有效光学厚度的分布，其中所述 有效光学厚度至少作为与所述坐标系统的所述优选坐标不同的一个坐标的 函数而变化，所述偏振调制光学元件的厚度分布设定为使得将具有均匀取向 的线性偏振分布的光转换为具有切向偏振分布的光或者转换为具有径向偏 振分布的光。

2.如权利要求1所述的光学系统，其中所述有效光学厚度由于所述偏 振调制光学元件的旋光率的变化而变化。

3.如权利要求1所述的光学系统，其中所述有效光学厚度由于所述偏 振调制光学元件的几何厚度的变化而变化。

4.如权利要求1至3的其中一个所述的光学系统，其中所述偏振调制 光学元件包含旋光或非旋光液体和/或旋光晶体。

5.如权利要求1至3的其中一个所述的光学系统，其中所述偏振调制 光学元件包含顺时针和逆时针旋光材料。

6.如权利要求1至3的其中一个所述的光学系统，其中以不同路径传 过所述光学系统并通过所述偏振调制光学元件的第一线性偏振光线和第二 线性偏振光线的各自相应的振荡平面依照各自相应的第一和第二旋转角而 被旋转，以使所述第一旋转角不同于所述第二旋转角。

7.如权利要求1至3的其中一个所述的光学系统，其中所述偏振调制 光学元件将输入所述偏振调制光学元件的、具有第一线性偏振分布的光束转 换为由所述偏振调制光学元件出射的、具有第二线性偏振分布的光束，其中 所述第二线性偏振分布不同于所述第一线性偏振分布。

8.如权利要求1至3的其中一个所述的光学系统，包含偏振控制系统， 用于控制传过所述光学系统的光束在所述光学系统中的预定位置处的偏振 分布，所述偏振控制系统包含至少一个加热或冷却装置以修改所述偏振调制 光学元件的温度和/或温度分布，从而影响所述光束在所述光学系统中的所述 预定位置处的偏振分布。

9.如权利要求1至3的其中一个所述的光学系统，其中至少一个偏振 调制光学元件包含经历过磁场的旋光或非旋光材料，所述磁场具有与传过所 述偏振调制光学元件的光束方向平行的场分量。

10.一种投影系统，包含辐射源、可操作用来照明结构化的掩模的照明 系统、以及将所述掩模结构的图像投射到光敏衬底的投影物镜，并且包含如 权利要求1至9的其中一个所述的光学系统。

11.如权利要求10所述的投影系统，其中在离所述衬底最近的光学元 件和所述衬底之间存在有折射率不同于空气的浸没介质。