[发明专利]镀膜系统

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜制程领域，尤其涉及一种镀膜系统。

背景技术

当前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光通过镜片的能量损耗。又如在某些滤光元件表面镀上一层滤光膜，可滤掉某一预定波段的光，制成各种各样的滤光片。一般地，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。Ichiki，M.等人在2003年5月发表于2003 Symposium on Design，Test，Integrationand Packaging of MEMS/MOEMS的论文《Thin film formation-a fabricationon non-planar surface by spray coating method》中介绍了通过喷涂在非平面形成薄膜的方法。

现有镀膜方式是将镀膜和喷漆在不同的装置中进行的，因此镀膜完成后的待镀物品要经过专门的运送装置运送至喷漆装置中，这无疑增加了运送成本，同时，待镀物品在运送过程中也容易被污染，对待镀物品的镀膜良率造成影响，同时加工步骤烦琐。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可提高镀膜良率及提高镀膜速率的镀膜系统。

一种镀膜系统，其包括一腔体、一镀膜伞架及一旋转驱动组件。所述镀膜伞架用于收容多个待镀膜的基板。所述旋转驱动组件连接至所述镀膜伞架，用于驱动所述镀膜伞架在所述腔体内转动。所述腔体包括一隔板，该隔板将所述腔体分隔成相互间隔的镀膜腔及喷漆腔。所述镀膜系统进一步包括一升降驱动组件、一溶剂储室及一喷射装置。所述升降驱动组件带动旋转驱动组件升降，以使所述镀膜伞架在镀膜腔及喷漆腔内升降。所述溶剂储室用于存放涂料溶剂。所述溶剂储室与所述喷漆腔相贯通，所述喷射装置设置在所述溶剂储室内，该喷射装置并连接至所述喷漆腔，以将溶剂储室内的涂料溶剂喷射至待镀膜的基板。

本发明的镀膜系统既可对待镀膜的基板进行蒸镀又可对待镀膜的基板喷射涂料，省去了由蒸镀制程到喷射涂料制程之间对待镀膜的基板的运送动作，因此节省了镀膜成本及提高了镀膜效率，同时避免待镀膜的基板由于运送而造成的污染，进而提高了镀膜良率。

附图说明

图1是本发明第一实施方式的镀膜系统的示意图；

图2是图1中的镀膜系统的使用状态示意图；

图3是本发明第二实施方式的镀膜系统的示意图。

主要元件符号说明

镀膜系统        100、200

腔体            10

离子发射源      20

蒸发源          30

镀膜伞架        40

旋转驱动组件    50

升降驱动组件    60、75

闸门结构        70

溶剂储室        80

喷射装置        90

壳体            11

隔板            12

镀膜腔          13

喷漆腔          14

顶板            11a

底板            11b

第一侧板        11c

第二侧板        11d

圆孔            114

排气孔          110

第一通孔        112

镀膜孔          41

待镀膜的基板    44

主体部          502

转轴            504

固定杆          62

转动杆          64

套环            66

第一马达        68

连接杆          69

阀门            71

第二马达        72

固定板          77

第二通孔        710

第三通孔        810

注料口          820

涂料溶剂        85

喷嘴            91