[发明专利]胶涂覆设备及胶涂覆方法有效

专利信息
申请号: 201010154127.0 申请日: 2010-04-19
公开(公告)号: CN102221784A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 周伟峰;郭建;明星 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 胶涂覆 设备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种薄膜晶体管液晶显示器的制造工艺设备和工艺方法,尤其涉及一种胶涂覆设备及胶涂覆方法。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)技术在近十几年有了飞速的发展,从屏幕的尺寸到显示的质量都取得了很大进步。经过不断的努力。LCD各方面的性能已经达到了传统CRT(Cathode RayTube,阴极射线管)的水平,大有取代CRT的趋势。

随着LCD生产的不断扩大,各个生产商之间的竞争也日益激烈。各厂家在不断提高产品性能的同时,也在不断努力降低产品的生产成本,从而提高市场的竞争力。

多畴掩膜曝光是目前光刻工序的主要发展趋势之一,通过多畴掩膜曝光能够实现快速提高产能并降低成本的作用。目前多畴掩膜曝光主要是在某一种具有宽感光敏感区域的光刻胶上制备多畴区域实现的。

目前制备双层光刻胶的方法是:先涂覆完一层第一种胶后,再在第一层胶上用同样的方法制备第二层第二种胶,或者用间隔较大的两个或两个以上喷嘴先后涂覆制备多层光刻胶。

在这种情况下,由于涂覆第二层胶的时候第一层胶还没有固化,而为了避免由于液体表面张力的作用导致的第一种胶吸附污染第二种胶的喷嘴,所以第二种胶的喷嘴不能离第一层胶的表面太近,因此涂覆后两层胶之间会出现气泡,导致多畴掩膜曝光不良。

发明内容

本发明的实施例提供一种胶涂覆设备及胶涂覆方法,在涂覆多层胶时,能够减少甚至避免层与层之间出现气泡,进而提高TFT LCD的质量和制作效率。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一种胶涂覆设备,包括:喷嘴、与喷嘴连接的胶供给机构和喷嘴移动机构,所述喷嘴中包括至少两排胶喷孔,相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。

本发明还提供一种胶涂覆方法,包括:

由喷嘴移动机构带动喷嘴在基板上移动,并以与喷嘴移动方向相反的方向,顺次打开所述喷嘴中的各排胶喷孔进行胶涂覆。

本发明提供的胶涂覆设备及胶涂覆方法,设备喷嘴中含有多排胶喷孔,且相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。在进行胶涂覆时,通过顺次打开各排胶喷孔,可以在一个喷嘴的一次移动中同时完成多层胶的涂覆,省略了现有技术中,为涂覆多层胶所用的多个喷嘴,从而也减少甚至避免了多个喷嘴涂覆时由于喷嘴距离的偏差所造成的各层胶之间留有气泡的问题,进而减少了多畴掩膜曝光的不良,提高了TFT LCD的质量和制作效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的光刻胶涂覆设备的示意图;

图2为本发明实施例提供的喷嘴的侧面示意图;

图3为本发明实施例提供的喷嘴的另一侧面示意图;

图4为本发明实施例提供的喷嘴涂覆得到的多层光刻胶的侧面示意图;

图5为本发明实施例提供的喷嘴的仰视示意图;

图6为本发明实施例提供的喷嘴的另一仰视示意图;

图7为本发明实施例提供的喷嘴的又一侧面示意图;

图8为本发明实施例提供的光刻胶涂覆方法的流程框图。

符号说明:

1、平台  2、喷嘴  3、基板  4、隔垫物  5、第一层光刻胶  6、第二层光刻胶  7、隔垫物  201、第一排光刻胶喷孔202、第二排光刻胶喷孔  203、第三排光刻胶喷孔

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

本发明提供的胶涂覆设备,包括:喷嘴、与喷嘴连接的胶供给机构和喷嘴移动机构,其中,该喷嘴中包括至少两排胶喷孔,相邻的两排胶喷孔之间用隔垫物隔开。

下面,以实际中常用的涂覆光刻胶的光刻胶涂覆设备为例进行说明。但本发明不只限于涂覆光刻胶,所有满足本发明主旨条件的胶类涂覆都应在本发明保护范围内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010154127.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top