[发明专利]制造太阳能电池的薄膜沉积处理组件、系统及清洗方法

权利要求书

1.一种用于制造太阳能电池的薄膜沉积处理组件，所述组件包括：

真空室，其形成密封处理空间；

托盘支承单元，其安装于所述真空室内，用于支承其上装载有多个用于太阳能电池的晶体硅基片的托盘；

喷头单元，其安装于所述真空室的上方，用于将气体喷射到所述处理空间中；以及

等离子产生器，用于从所提供的用于清洗所述真空室的清洗气体产生等离子。

2.如权利要求1所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述真空室由铝或铝合金制成，或者具有由镍、镍合金、钨和钨合金中的一种所涂覆的表面。

3.如权利要求1所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述等离子产生器包括连接于所述喷头单元的远程等离子产生器，并通过所述喷头单元提供由所述远程等离子产生器转变成等离子态的清洗气体。

4.如权利要求1所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述等离子产生器在所述喷头单元或所述处理空间内从所述清洗气体产生等离子。

5.如权利要求1至4中的任一项所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述清洗气体是包括氟或氯的气体。

6.如权利要求5所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述清洗气体包括NF₃、C₂F₆、CF₄、F₂、CHF₃、SF₆和Cl₂中的一种。

7.如权利要求1所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述真空室设有隔离件，用于当所述托盘装配到所述托盘支承单元上时，将包括所述托盘支承单元的内表面的下部空间与所述处理空间及所述托盘隔离开，并且被构造成当所述托盘已装配到所述托盘支承单元上时，防止气体流入所述托盘支承单元中。

8.如权利要求7所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述托盘由金属材料或非金属材料制成。

9.如权利要求7或8所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述真空室还设有气体流入防止装置，其被构造成将惰性气体喷射到所述下部空间内以便防止气体流入所述下部空间内。

10.如权利要求1所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述真空室还设有被构造以传送所述托盘的托盘传送装置。

11.如权利要求10所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述托盘传送装置包括：

多个滚轮，其安装于具有矩形形状的所述托盘支承单元的两侧，以便通过支承所述托盘的边缘的底表面并被转动从而移动所述托盘；以及

驱动单元，用于驱动所述多个滚轮。

12.如权利要求10所述的薄膜沉积处理组件，其中，所述托盘传送装置还包括上下移动装置，用于向上和向下地移动所述滚轮。

13.一种用于制造太阳能电池的薄膜沉积处理系统，所述系统包括：

如权利要求1至4和权利要求7至8中的任一项所述的用于制造太阳能电池的所述薄膜沉积处理组件；

装载锁定组件，其安装于所述薄膜沉积处理组件的前面，并被构造成从外部接收其上装载有多个用于太阳能电池的晶体硅基片的、用于沉积处理的托盘，并将所接收的托盘传送到所述薄膜沉积处理组件；以及

卸载锁定组件，其安装于所述薄膜沉积处理组件的后面，并被构造成接收其上具有多个已经过所述沉积处理的基片的所述托盘，并将所接收的托盘卸出到外部，

其中，所述真空室包括被构造成传送已从所述装载锁定组件传送的托盘的托盘传送装置。

14.如权利要求13所述的薄膜沉积处理系统，还包括基片装载组件，其安装于所述装载锁定组件的前面，且被构造以将多个所述基片装载到所述托盘上。

15.如权利要求13所述的薄膜沉积处理系统，还包括托盘取回组件，其安装于所述卸载锁定组件的后面，且被构造以接收其上具有已经过所述沉积处理的基片的所述托盘。

16.如权利要求13所述的薄膜沉积处理系统，其中，所述托盘传送装置包括：

多个滚轮，其安装于具有矩形形状的所述托盘支承单元的两侧，以便通过支承所述托盘的边缘的底表面并被转动从而移动所述托盘；以及

驱动单元，用于驱动所述多个滚轮。