[发明专利]高速滚筒研磨抛光设备

权利要求书

1.一种高速研磨抛光设备，包括：

回转盘，其可围绕回转盘轴线旋转，所述回转盘轴线垂直于所述回转盘；以及

研磨抛光容器，其联接至所述回转盘，所述研磨抛光容器可围绕相应的容器轴线旋转，并且所述相应的容器轴线平行于所述回转盘轴线，以及所述研磨抛光容器包括：

内腔，其具有接近所述回转盘的第一端以及远离所述回转盘的第二端，在所述第一端与所述第二端之间的所述内腔通过平滑内壁来限定，并且所述内腔在所述第一端与所述第二端之间具有连续改变的内径。

2.如权利要求1所述的高速研磨抛光设备，其中所述内腔在所述第一端与所述第二端之间包括第一部分和第二部分，所述第一部分在所述第一端与在所述第一端和所述第二端之间存在的最宽点之间，所述第二部分在所述最宽点与所述第二端之间，所述第二部分与所述第一部分的倾斜方向相反。

3.如权利要求1或2所述的高速研磨抛光设备，所述回转盘旋转的方向与所述研磨抛光容器旋转的方向相反。

4.如权利要求1至3任一所述的高速研磨抛光设备，其中所述内腔的所述第一端通过基本上平坦的表面来限定。

5.如权利要求1至4任一所述的高速研磨抛光设备，其中所述回转盘和所述研磨抛光容器在立式行星球磨机中旋转。

6.如权利要求1所述的高速研磨抛光设备，其中通过防水密封部件来密封所述研磨抛光容器，以及密封后的研磨抛光容器的所述内腔中还包含液体。

7.如权利要求1所述的高速研磨抛光设备，其中所述研磨抛光容器的所述内腔中包含干式研磨剂。

8.如权利要求1所述的高速研磨抛光设备，还包括：联接至所述回转盘的支撑件，所述支撑件具有通过其延伸的不平行于所述回转盘轴线的支撑件轴线。

9.如权利要求8所述的高速研磨抛光设备，其中在所述支撑件轴线与所述回转盘轴线之间限定的角基本上是45度角。

10.如权利要求1所述的高速研磨抛光设备，所述研磨抛光容器用于容纳电子元器件。

11.一种高速研磨抛光设备，包括：适于以倾斜角进行研磨抛光的行星球磨机，所述行星球磨机具有：

回转盘，其可围绕回转盘轴线旋转，其中所述回转盘轴线垂直于所述回转盘；以及

研磨抛光容器，其联接至所述回转盘，所述研磨抛光容器可围绕相应的容器轴线旋转，并且所述相应的容器轴线平行于所述回转盘轴线，以及所述研磨抛光容器包括：

内腔，其具有接近所述回转盘的第一端以及远离所述回转盘的第二端，在所述第一端与所述第二端之间的所述内腔通过平滑内壁来限定，并且所述内腔所述第一端与所述第二端之间具有连续改变的内径；其中所述回转盘联接至支撑件并通过所述行星球磨机中的旋转件来旋转，所述支撑件具有通过其延伸的不平行于所述回转盘轴线的支撑件轴线，从而能够以所述支撑件轴线与所述回转盘轴线之间限定的倾斜角旋转所述研磨抛光容器。

12.如权利要求11所述的高速研磨抛光设备，其中所述倾斜角被设置为基本上是45度角。

13.如权利要求11或12所述的高速研磨抛光设备，其中所述回转盘的旋转方向与所述研磨抛光容器的旋转方向相反。

14.如权利要求11至13任一所述的高速研磨抛光设备，其中所述内腔的所述第一端通过基本上平坦的表面来限定。

15.如权利要求11至14任一所述的高速研磨抛光设备，其中所述研磨抛光容器被通过防水密封部件来密封，密封后的研磨抛光容器的所述内腔中包含液体。

16.如权利要求11至15任一所述的高速研磨抛光设备，其中在所述研磨抛光容器的所述内腔中包含干式研磨剂。

17.一种研磨抛光容器，包括：

内腔，其具有第一端和第二端，在所述第一端与所述第二端之间的所述内腔通过平滑内壁来限定，并且所述内腔在所述第一端与所述第二端之间具有连续改变的内径；

其中所述研磨抛光容器用于联接至所述高速研磨抛光设备中的旋转件，并且所述研磨抛光容器可被所述高速研磨抛光设备围绕所述研磨抛光容器的轴线旋转。