[发明专利]GGG透明激光陶瓷的制备方法无效
| 申请号： | 201010147911.9 | 申请日： | 2010-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN101844922A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | 江国健;陈竟斌;郝楠;黄佳婧;范研艳;徐家跃 | 申请（专利权）人： | 上海应用技术学院 |
| 主分类号： | C04B35/50 | 分类号： | C04B35/50;C04B35/622 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 200235 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | ggg 透明 激光 陶瓷 制备 方法 | ||
1.一种GGG透明激光陶瓷的制备方法，包括下列步骤：
(1)、将GGG粉体和烧结助剂Nd2O3放在水中均匀混合，GGG粉体和烧结助剂Nd2O3的重量比例为98～90∶10～2；
(2)、将混合好的原料在磁场下2MPa压力成型，磁场强度1～10T，然后通过热压烧结或者真空烧结或者SPS烧结的方式进行烧结，待烧结结束后，将产物随炉冷却至室温，即得到所述GGG透明激光陶瓷。
2.权利要求1所述一种GGG透明激光陶瓷的制备方法，其特征是：所述步骤(1)中所述GGG粉体的粒径为50～100nm，烧结助剂Nd2O3的粉体纯度＞99wt％，粒径为0.3～30μm。
3.权利要求1或2所述一种GGG透明激光陶瓷的制备方法，其特征是：步骤(2)中所述的热压烧结条件为：在10～30MPa、1600℃～1800℃下保温时间1～5小时、氮气气氛保护条件下进行热压烧结。
4.权利要求1或2所述一种GGG透明激光陶瓷的制备方法，其特征是：步骤(2)中所述的真空烧结条件为：在1800℃～2000℃、保温时间1～5小时、氢气作为保护气氛条件下进行真空烧结。
5.权利要求1或2所述一种GGG透明激光陶瓷的制备方法，其特征是：步骤(2)中所述的SPS烧结条件为：在10～30MPa、1500℃～1700℃、保温时间0.5小时，氮气作为保护气氛条件下进行SPS烧结。
6.权利要求3所述一种GGG透明激光陶瓷的制备方法，其特征是：在烧结结束后，对样品进行48小时以上1800℃保温处理，然后冷却至室温。
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