[发明专利]成膜装置和成膜方法

权利要求书

1.一种成膜装置，其在真空容器内的工作台上载置有基板，并且通过使工作台与分别供给相互反应的至少两种反应气体的多个反应气体供给部件相对旋转，按顺序向基板供给至少两种反应气体，并且实施该供给循环，由此层叠反应生成物层而形成薄膜，其特征在于，其包括：

基板载置区域，其设置在真空容器内的工作台的表面上，用于载置基板；

旋转机构，其用于使工作台与多个反应气体供给部件相对旋转，使得基板按顺序位于从多个反应气体供给部件分别供给反应气体的多个处理区域；

第一反应气体供给部件，其与工作台上的基板载置区域相对设置，用于向基板上供给第一反应气体而使该第一反应气体吸附在基板上；

辅助气体供给部件，其与工作台上的基板载置区域相对设置，并且在工作台的周向上与第一反应气体供给部件隔开间隔地设置在第一反应气体供给部件的工作台相对于多个气体供给部件进行相对旋转的相对旋转方向的下游侧，用于向基板上供给辅助气体，该辅助气体与吸附在基板上的第一反应气体发生反应而生成具有流动性的中间产物；

第二反应气体供给部件，其与工作台上的基板载置区域相对设置，并且在工作台的周向上设置在辅助气体供给部件的相对旋转方向的下游侧，用于向基板上供给与基板上的中间产物发生反应而生成反应生成物的第二反应气体；

加热部件，其与工作台上的基板载置区域相对设置，且在工作台的周向上设置在第二反应气体供给部件的相对旋转方向的下游侧并且设置在第一反应气体供给部件的相对旋转方向的上游侧，其用于加热基板，以使反应生成物致密化。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具有用于对分离区域分别供给分离气体的分离气体供给部件，从工作台的相对旋转方向看来，该分离区域分别设置在被供给第一反应气体的第一处理区域和被供给辅助气体的辅助处理区域之间、第一处理区域和被供给第二反应气体的第二处理区域之间，用于划分处理区域的气氛。

3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

加热部件是加热灯，该加热灯与工作台上的基板载置区域相对设置。

4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具有控制部，该控制部输出控制信号，以便使载置有基板的工作台旋转，从第一反应气体供给部件、辅助气体供给部件和第二反应气体供给部件分别向基板按照第一反应气体、辅助气体和第二反应气体这样的顺序供给第一反应气体、辅助气体和第二反应气体，然后，在这些反应气体的每个供给循环中利用加热部件加热基板，由此，按照使第一反应气体吸附在基板上、生成中间产物、生成反应生成物、使反应生成物致密化这样的顺序反复进行多次使第一反应气体吸附在基板上、生成中间产物、生成反应生成物、使反应生成物致密化。

5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具有控制部，该控制部输出控制信号，以便使载置有基板的工作台旋转，从第一反应气体供给部件、辅助气体供给部件和第二反应气体供给部件分别向基板按照第一反应气体、辅助气体和第二反应气体这样的顺序供给第一反应气体、辅助气体和第二反应气体，由此，按照在基板上吸附第一反应气体、生成中间产物、生成反应生成物这样的顺序反复进行多次在基板上吸附第一反应气体、生成中间产物、生成反应生成物，之后，利用加热部件加热基板使反应生成物致密化。

6.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具有等离子体供给部件，该等离子体供给部件与工作台上的基板载置区域相对设置，并且，在工作台的周向上设置在第二反应气体供给部件的相对旋转方向的下游侧并且设置在加热部件的相对旋转方向的上游侧，其用于对基板供给等离子体。

7.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

该成膜装置具有第三反应气体供给部件，该第三反应气体供给部件为了使硼和磷中的至少一种混入到反应生成物内而与工作台上的基板载置区域相对设置，并且，在工作台的周向上设置在第一反应气体供给部件的相对旋转方向的下游侧并且设置在加热部件的相对旋转方向的上游侧，用于向基板的表面供给第三反应气体而使第三反应气体吸附在该基板的表面上。