[发明专利]镀膜支架及镀膜机

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜装置领域，尤其涉及一种镀膜支架及包括该镀膜支架的镀膜机。

背景技术

于产品表面镀功能薄膜可改善产品表面的各种性能，如于光学镜片的表面镀一层抗反射膜，可降低镜片表面的反射率及入射光穿过镜片的能量损耗。又如于某些滤光元件表面镀一层滤光膜，可滤掉某一预定波段的光，制成各种各样的滤光片。

为提高镜头模块的成像品质，镜头模块的镜片、滤光片等光学元件的两面都需光学镀膜，以避免入射光于穿过每个元件时，部分入射光反射而导致光能损耗。

光学两面镀膜多以热蒸镀或溅镀方式进行，其镀膜过程通常包括：抽真空、加热、一面镀膜、冷却、破真空、翻面光学元件、抽真空、加热、另一面镀膜、冷却、破真空、取出光学元件等步骤。目前，翻面光学元件多指以人工的方式依次将镜头盘内的每个光学元件翻面，此举相当耗时，效率低下。另，人工直接与光学元件直接，不可避免地污染光学元件。

因此，提供一种镀膜支架及镀膜机来提高镀膜效率及减少污染实为必要。

发明内容

以下以实施方式为例说明一种提高镀膜效率及减少污染的镀膜支架及镀膜机。

该镀膜支架包括设有多个通孔的架体，多个用于承载镜头盘的翻转架、多个固定轴及多个卡位装置。每个通孔内设有一个翻转架。该翻转架通过至少一个固定轴与该架体相连。该翻转架可绕该至少一个固定轴翻面。每个卡位装置与架体相连，用于将翻面前及翻面后的该翻转架与该架体卡紧。

该镀膜机包括一个真空容器、设置于该真空容器内的至少一个靶材及上述镀膜支架，该镀膜支架与该至少一个靶材相对设置。

与现有技术相比，本技术方案的镀膜支架直接将翻转架翻面即可一次性地将同一个镜头盘内的光学元件同时翻面，提高了镀膜效率，且避免了人工直接接触光学元件，减少了光学元件污染。

附图说明

图1是本技术方案一个实施例提供的镀膜支架的示意图。

图2是图1所示镀膜支架的局部结构的放大示意图。

图3是图2所示局部结构的分解示意图。

图4是图2所示局部结构的卡位件的示意图。

图5是图2所示镀膜支架的翻转架围绕固定轴翻转的示意图。

图6是图2所示镀膜支架的翻转架翻面的示意图。

图7是本技术方案另一个实施例提供的镀膜机的示意图。

主要元件符号说明

镀膜支架      100

架体          110

凹槽          1102

外表面        1107

通孔          1101

翻转架        120

第一边框      121

第二边框      122

第三边框      123

第四边框      124

载板          125

夹持件        126

固定端        1261

夹持端        1262

第一表面        1211

第二表面        1212

收容腔          127

固定轴          130

卡位装置        140

卡位件          141

弹性件          142

底壁            1411

连接壁          1412

卡位部          1413

镀膜机          200

真空容器        210

靶材            220

具体实施方式

以下结合附图及具体实施方式对本技术方案提供的镀膜支架及镀膜机进行详细说明。

参见图1及图4，本技术方案一实施例提供的镀膜支架100包括架体110、多个翻转架120、多根固定轴130及多个卡位装置140。