[发明专利]用于清洗研磨布的装置和方法

权利要求书

1.一种用于清洗研磨布的装置，该装置被用于如下研磨设备：在该研磨设备中，工件被压到粘附于研磨板的研磨布上，在将研磨液供给到所述研磨布的同时使所述工件相对于所述研磨板移动，从而研磨所述工件，

所述装置包括：

喷嘴单元，所述喷嘴单元具有能够向所述研磨布喷射高压清洗水以清洗所述研磨布的喷嘴，

其中，所述喷嘴是能够直线状地喷射所述清洗水并且与所述研磨布垂直地喷射所述清洗水的直喷嘴。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述喷嘴单元包括多个所述喷嘴。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述装置还包括在所述研磨板上方移动所述喷嘴单元的单元。

4.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，

所述装置还包括在所述研磨板上方移动所述喷嘴单元的单元。

5.一种用于清洗研磨布的方法，该方法用于如下研磨设备：在该研磨设备中，工件被压到粘附于研磨板的研磨布上，在将研磨液供给到所述研磨布的同时使工件相对于所述研磨板移动，从而研磨所述工件，

所述方法包括如下步骤：

从喷嘴单元的喷嘴向所述研磨布喷射高压清洗水以清洗所述研磨布，

其中，所述喷嘴是直喷嘴，并且

所述直喷嘴直线状地喷射所述清洗水并且与所述研磨布垂直地喷射所述清洗水。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，

所述研磨布受到的所述清洗水的压力近似等于或大于在研磨所述工件时施加到所述工件的研磨负荷。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，

所述研磨布受到的所述清洗水的压力是150gf/cm²～350gf/cm²。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，

所述研磨布受到的所述清洗水的压力是150gf/cm²～350gf/cm²。

9.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，

所述研磨布的主要材料是泡沫聚氨酯。

10.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，

在清洗所述研磨布的时候，在从所述直喷嘴喷射所述清洗水的同时使所述喷嘴单元在所述研磨板上方移动。