[发明专利]发光元件、曝光头及图像形成装置无效

专利信息
申请号: 201010140730.3 申请日: 2010-03-23
公开(公告)号: CN101847693A 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: 藤田彻司;山本英利 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56;H04N1/028
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蒋亭;苗堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 元件 曝光 图像 形成 装置
【权利要求书】:

1.一种发光元件,其特征在于,具有:

阴极、

阳极、

在所述阴极与所述阳极之间设置的、含有发红色光的红色发光材料而构成的发光层、

在所述发光层与所述阴极之间设置的、含有第1电子输送材料而构成的第1电子输送层、以及

在所述发光层与所述第1电子输送层之间与它们相接触地设置的、含有与所述第1电子输送材料不同的第2电子输送材料而构成的第2电子输送层。

2.根据权利要求1所述的发光元件,其中,所述红色发光材料为二茚并苝衍生物。

3.根据权利要求2所述的发光元件,其中,所述发光层含有并四苯衍生物而构成。

4.根据权利要求1~3中任意一项所述的发光元件,其中,所述第2电子输送层以三(8-羟基喹啉)铝为主材料而构成。

5.根据权利要求4所述的发光元件,其中,所述第2电子输送层含有红荧烯衍生物而构成。

6.根据权利要求5所述的发光元件,其中,所述第2电子输送层中的红荧烯衍生物的含有量为0.5wt%~20wt%。

7.根据权利要求1~6中任意一项所述的发光元件,其中,在将所述第2电子输送层的厚度设为A、将所述第1电子输送层的厚度设为B时,A/B为10%以上且不到90%,所述A和B的单位是nm。

8.根据权利要求1~7中任意一项所述的发光元件,其中,所述第2电子输送层的厚度为2nm~15nm。

9.根据权利要求1~8中任意一项所述的发光元件,其中,所述第1电子输送层的厚度与所述第2电子输送层的厚度的总厚度为10nm~100nm。

10.根据权利要求1~9中任意一项所述的发光元件,其中,所述第1电子输送层含有菲咯啉衍生物而构成。

11.根据权利要求1~10中任意一项所述的发光元件,其中,所述第1电子输送层与所述第2电子输送层的界面附近由所述第1电子输送材料和所述第2电子输送材料的混合材料构成。

12.一种曝光头,其特征在于,具备权利要求1~11中任意一项所述的发光元件。

13.根据权利要求12所述的曝光头,其中,沿着一个方向排列多个所述发光元件,在所述各发光元件的光的射出侧设有使来自所述各发光元件的光成像的成像光学系统。

14.一种图像形成装置,其特征在于,具备权利要求12或13所述的曝光头。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010140730.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top