[发明专利]摄像装置和光学调整方法无效
| 申请号: | 201010140255.X | 申请日: | 2010-03-24 |
| 公开(公告)号: | CN101852907A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
| 发明(设计)人: | 大畑笃;黑田大介;村田将之 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
| 主分类号: | G02B7/00 | 分类号: | G02B7/00;G02B7/04;G02B7/10;G03B19/00 |
| 代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 摄像 装置 光学 调整 方法 | ||
1.一种摄像装置,包括:
在可沿光轴方向移动的构成变焦透镜的至少三个以上透镜组中的至少一个以上的可垂直移动透镜组,所述可垂直移动透镜组可沿基本上垂直于光轴的方向移动;
在所述三个以上透镜组中的变焦透镜组,所述变焦透镜组可沿光轴方向移动;以及
校正机构,通过将在广角端状态下的所述可垂直移动透镜组沿所述基本上垂直的方向移动至预定位置来校正基于所述三个以上透镜组的光轴位置,
其中
当所述可垂直移动透镜组为了防振而在各个变焦位置处在所述基本上垂直的方向上移动时,
满足下面的条件式(1),
(1)0.7<(Lw+Bw)/Bt<1.3,
其中,
Lw是用于校正所述光轴位置的移动量,
Bw是在广角端状态下用于防振的移动量,并且
Bt是在望远端状态下用于防振的移动量。
2.根据权利要求1所述的摄像装置,其中,满足下面的条件式(2)和(3),
(2)0.2<((1-βiw)×βrw)/((1-βit)×βrt)<0.7,
以及
(3)((1-βiw)×βrw)>fw×tan0.5,
其中
βiw是在广角端状态下所述可垂直移动透镜组的近轴横向放大率,
βrw是比广角端状态下的所述可垂直移动透镜组更接近于图像拾取表面侧设置的透镜组的近轴横向放大率,
βit是在望远端状态下所述可垂直移动透镜组的近轴横向放大率,
βrt是比望远端状态下的所述可垂直移动透镜组更接近于图像拾取表面侧设置的透镜组的近轴横向放大率,并且
fw是广角端状态下的焦距。
3.根据权利要求1所述的摄像装置,其中,满足下面的条件式(4),
(4)((1-βit)×βrt)/((1-βiw)×βrw)<1.1×(Bt/Bw)。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的摄像装置,其中,满足下面的条件式(5),
(5)α×((1-βiw)×βrw)/((1-βit)×βrt)>1.33
其中
α为所述变焦透镜组的变焦比。
5.一种用于摄像装置的光学调整方法,所述摄像装置包括:在可沿光轴方向移动的构成变焦透镜的至少三个以上透镜组中的至少一个以上的可垂直移动透镜组,所述可垂直移动透镜组可沿基本上垂直于光轴的方向移动;在所述三个以上透镜组中的变焦透镜组,所述变焦透镜组可沿光轴方向移动;以及校正机构,通过将广角端状态下的所述可垂直移动透镜组沿所述基本上垂直的方向移动至预定位置来校正基于所述三个以上透镜组的光轴位置,所述光学调整方法包括以下步骤:
为了防振,所述可垂直移动透镜组在各个变焦位置处在所述基本上垂直的方向上移动,
其中,满足下面的条件式(1),
(1)0.7<(Lw+Bw)/Bt<1.3,
其中
Lw是用于校正所述光轴位置的移动量,
Bw是在广角端状态下用于防振的移动量,并且
Bt是在望远端状态下用于防振的移动量。
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