[发明专利]一种低温型水系正胶剥离液无效

专利信息
申请号: 201010139071.1 申请日: 2010-04-01
公开(公告)号: CN101799639A 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 殷福华;栾成;邵勇;朱龙 申请(专利权)人: 江阴市江化微电子材料有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 何军
地址: 214423 江苏省江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 低温 水系 剥离
【说明书】:

一、技术领域

发明涉及一种低温型水系正胶剥离液,尤其涉及一种用于FPD面板生产的光阻剥离的低温型水系正胶剥离液。

二、背景技术

低温型水系正胶剥离液,透明易挥发性液体,易燃,密度(20℃)约为1.0g/ml。低温型水系正胶剥离液主要用于用于FPD面板生产的光阻剥离,其使用工艺温度为80℃左右;目前正胶剥离液主要由乙醇胺(MEA)、二甲基亚砜(DMSO)和超纯水组成,该产品主要存在以下几点缺点:

①用该低温型水系正胶剥离液进行光阻剥离时容易对光阻保护的金属层产生攻击,导致产品良率降低;

②该低温型水系正胶剥离液的使用工艺温度要求较高,需加热到80℃左右,能耗较大;

③乙醇胺(MEA)和二甲基亚砜(DMSO)对环境污染大且对人体健康有较大伤害。

三、技术内容

针对上述缺点,本发明的目的在于提供一种进行光阻剥离时不攻击金属层、使用工艺温度低、对环境无污染小和对人体健康伤害小的低温型水系剥离液。

本发明的技术内容为,一种低温型水系正胶剥离液,其特征是它包括以下质量百分比的组份:

N-甲基吡咯烷酮(NMP)    29~31

二甲基乙酰胺(DMAC)     23.7~27.7

二乙二醇丁醚(BDG)      24~26

水                     17~23。

本发明的低温型水系正胶剥离液的制备方法,为常规技术即为:

(1)、通过自动上料系统将原料NMP、DMAC、BDG依次打入一调配罐中,当所需要的重量达到后自动停止上料,再开动隔膜泵,经过0.5um过滤器循环过滤2小时;

(2)、将上述制得的混合液经0.2μm的过滤器过滤,以去除混合液中粒径大于0.2μm的有害粒子,即得低温型水系正胶剥离液。

本发明在不改变客户使用效果的前提下,改变配方,提高产品的光阻剥离性能,降低工艺条件温度,并且避免了原来使用的正胶剥离液造成的对人体和环境造成的损害,本方法能适用于大规模生产。

本发明与现有技术相比所具有的优点是:

1、本发明的低温型水系正胶剥离液进行光阻剥离时不会攻击金属层。

2、本发明的低温型水系正胶剥离液工艺温度条件为60℃,低于原来的工艺温度80℃,能耗降低。

3、本发明的低温型水系正胶剥离液中的组份对人体健康危害和环境污染小。

四、具体实施例

下面通过实施例进一步描述本发明,但未限于所举的实施例。

含量99%的N-甲基吡咯烷酮(NMP),电子级,江阴市江化微电子材料有限公司生产;其指标如表1

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江阴市江化微电子材料有限公司,未经江阴市江化微电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010139071.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top