[发明专利]电子照相感光体和图像形成装置无效

专利信息
申请号: 201010138863.7 申请日: 2010-03-17
公开(公告)号: CN101937176A 公开(公告)日: 2011-01-05
发明(设计)人: 清水智文;宫本荣一 申请(专利权)人: 京瓷美达株式会社
主分类号: G03G5/05 分类号: G03G5/05;G03G15/00
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 王琦;王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电子 照相 感光 图像 形成 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及电子照相感光体和图像形成装置,特别涉及抑制灰雾的产生的单层型电子照相感光体和具备该单层型电子照相感光体的图像形成装置。

背景技术

作为在图像形成装置中进行的显影方式,有带正电型反转显影方式。该方式中,利用静电力使通过显影部件摩擦带电至正极性的调色剂附着在带电至正极性的电子照相感光体上的静电潜像上,由此进行反转显影。然后,使该进行了显影的调色剂图像转印及定影到记录介质,由此进行图像形成。

作为该方式中使用的电子照相感光体,存在制造容易,且可以并用空穴输送剂和电子输送剂作为电荷输送剂,电荷发生剂、电荷输送剂、粘结树脂等材料的选择项多种多样的单层型带正电有机感光体。

作为单层型带正电有机感光体,存在通过使位于感光体的最表层的感光层的粘结树脂含有下述化学式(2-1)所示的双酚Z型聚碳酸酯,而实现了1200dpi水平的高分辨率和高画质的单层型电子照相感光体(例如专利文献1)。

专利文献1:日本特开2002-214806号公报

专利文献2:日本特开2003-270819号公报

专利文献3:日本特开平6-51543号公报

但是,近年来要求图像形成的高速化,而将上述单层型电子照相感光体的线速度例如设定为150mm/s以上来连续地形成图像时,通过显影部件进行的调色剂的摩擦带电易变得不充分。而且,由于未摩擦带电的调色剂也附着在电子照相感光体的静电潜像以外的部分,在形成图像中易引起所谓的“灰雾”的图像障碍。

作为抑制灰雾的产生的方法,例如,提出了使用特定的亚芳基衍生物作为电子输送剂的方法(例如专利文献2)。但是,该方法中,电子照相感光体的制造成本增加。

另一方面,在专利文献3中公开了一种层压型电子照相感光体,该层压型电子照相感光体使用聚碳酸酯、与聚氯乙烯和氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物中的至少一种、的混合树脂作为位于感光层的最表层的电荷迁移层的粘结树脂。

但是,专利文献3中公开的电子照相感光体为,与专利文献1中公开的单层型带正电有机感光体相比,不仅层结构和电荷发生位置不同,而且带电极性也相反的层压型带负电有机感光体。而且,在专利文献3记载的发明中,对带正电有机感光体的适用没有进行任何研究。此外,在专利文献3记载的发明中,为了维持耐调色剂-成膜性,只是使用了混合有耐接触时的磨损、损伤的聚氯乙烯或氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物与聚碳酸酯的混合树脂作为树脂,对提高调色剂的摩擦带电性能完全没有进行研究。因此,使用聚碳酸酯与聚氯乙烯和氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物中的至少一种的混合树脂构成单层型带正电有机感光体,也由于感光层的膜厚、空穴输送剂与电子输送剂的组合或带电电位,不仅不能抑制灰雾产生,还有可能大量产生灰雾。

发明内容

本发明是鉴于上述情况而提出的,本发明的目的在于,提供不会大幅增加制造成本,在高速地进行图像形成时,也可以抑制灰雾的产生的单层型电子照相感光体。

本发明人对使用聚碳酸酯作为感光层的粘结树脂的单层型带正电有机感光体中产生灰雾的原因进行了研究。而且,本发明人认为,在带正电型反转显影方式中,作为调色剂采用与感光体相比在摩擦带电系列中位于负侧的调色剂时,通过显影部件未带电至正极性的调色剂(未带电调色剂)与静电潜像的显影时带电至正极性的感光体接触,由此与感光体相比带电至负性,与该感光体相比带电至负性的调色剂还能附着在感光体的静电潜像以外的部分。而且,本发明人发现,在该想法的基础上,感光层的粘结树脂的一部分使用在每一个单体单元,电负性比氢原子大的原子或官能团与主链的碳原子键合的烯烃聚合物时,与仅使用聚碳酸酯作为粘结树脂的电子照相感光体相比,可以提供可显著抑制灰雾的产生的电子照相感光体。

即,本发明的单层型电子照相感光体,具有导电性基体和感光层,所述感光层位于所述单层型电子照相感光体的最表层,所述感光层中,作为粘结树脂含有聚碳酸酯和聚芳酯中的至少一种与至少含下述通式(1)所示的单体单元的烯烃聚合物。

通式(1)中,X1、X2、X3和X4中的至少一种为电负性比氢原子大的原子或官能团,其余为氢原子。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷美达株式会社,未经京瓷美达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010138863.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top