[发明专利]一种研磨物料的对滚机有效

专利信息
申请号: 201010137237.6 申请日: 2010-03-31
公开(公告)号: CN101829615A 公开(公告)日: 2010-09-15
发明(设计)人: 薛永宗;薛鉴;王玉琦 申请(专利权)人: 无锡市新科表面工程材料有限公司
主分类号: B02C4/02 分类号: B02C4/02;B02C4/42;B02C4/32
代理公司: 杭州裕阳专利事务所(普通合伙) 33221 代理人: 江助菊
地址: 214063 江苏省无锡市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 研磨 物料
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种研磨物料的机器设备,尤其涉及一种研磨物料的对滚机。

背景技术

目前市场上的常用的研磨物料的机器设备常为一般的手工压缩机或简单的机器压磨机,结构简单,费时费力,比如,在现有专利文献中,申请号为97210135.7、申请日1997年04月18日、公开号为CN2292610、公告日为1998年09月30日、专利权人为薛孝俊的立式离心磨料装置专利,本实用新型提供了一种立式离心磨料装置。主要结构有磨料机和与其依次连通的扑尘卸料机构和风机。磨料机自下而上是固连的机座、下动力机构、磨碎室和上动力机构。其特点是分选机构与粉碎机构上下对应设在磨碎室内,本装置具有结构合理、紧凑,占地少,工作平稳可靠,物料的粉碎颗粒大小调节方便和粉碎效果好、质量高的优点,可对冶金、矿山、化工和建材等行业中的非易燃易爆物料进行细碎及超细粉碎,但此装置没法控制研磨物料太大或太小时的研磨的有效性。

发明内容

本发明针对现有技术中的研磨物料的机器设备费时费料、没法控制研磨物料太大或太小时的研磨的有效性的问题,提供了一种经济、实用的研磨物料的对滚机。

为了解决上述技术问题,本发明通过下述技术方案得以解决:

一种研磨物料的对滚机,包括固定机体的固定装置、进料用的进料装置、进料用的出料装置及研磨物料的研磨装置,研磨装置上连有驱动机,其特征在于:所述研磨装置包括主动齿轮、被动齿轮、两个过桥齿轮,主动齿轮和被动齿轮安装在主动轴上,主动轴安在轴承上,轴承安在轴承座上,被动齿轮远离主动齿轮的一边有一弹簧箱,弹簧箱内有紧松弹簧,弹簧箱和被动齿轮上的轴承座之间有一推挡块,弹簧箱上设有可旋紧压缩紧松弹簧的螺母,弹簧箱通过连接杆和弹簧箱支架相连。研磨装置上有主动齿轮、被动齿轮、两个过桥齿轮,当驱动机带动主动齿轮转动时,主动齿轮通过两个过桥齿轮的转动,带动被动齿轮的转动,从而可以研磨进入主动齿轮和被动齿轮之间的研磨物料。同时由于研磨物料有大有小,通过弹簧箱和推挡块调节主动齿轮和被动齿轮之间的空隙,从而有效研磨物料。

作为优选,所述主动齿轮的直径小于被动齿轮的直径。有利于主动齿轮有效带动被动齿轮转动。

作为优选,所述进料装置包括进料口和进料板,方便进料。

作为优选,所述出料装置包括出料口。方便出料。

作为优选,所述两个过桥齿轮安装在主动齿轮、被动齿轮的下方。

按照本发明的技术方案,当驱动机带动主动齿轮转动时,主动齿轮通过两个过桥齿轮的转动,带动被动齿轮的转动,从而可以研磨进入主动齿轮和被动齿轮之间的研磨物料。同时由于研磨物料有大有小,通过弹簧箱和推挡块调节主动齿轮和被动齿轮之间的空隙,从而有效研磨物料。此机器设备结构简单,实用方便,价格便宜,研磨效果极佳。

附图说明

图1为本发明一种研磨物料的对滚机的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述:

实施例

一种研磨物料的对滚机,如图1所示,包括固定机体2的固定装置、进料用的进料装置、进料用的出料装置及研磨物料的研磨装置,研磨装置上连有驱动机,所述研磨装置包括主动齿轮6、被动齿轮15、两个过桥齿轮7,主动齿轮6和被动齿轮15安装在主动轴8上,主动轴8安在轴承16上,轴承16安在轴承座5上,被动齿轮15远离主动齿轮6的一边有一弹簧箱10,弹簧箱10内有紧松弹簧11,弹簧箱10和被动齿轮15上的轴承座5之间有一推挡块9,弹簧箱10上设有可旋紧压缩紧松弹簧11的螺母17,弹簧箱1通过连接杆12和弹簧箱支架13相连。所述主动齿轮6的直径小于被动齿轮15的直径。所述进料装置包括进料口3和进料板4。所述出料装置包括出料口14。所述两个过桥齿轮7安装在主动齿轮6、被动齿轮15的下方。

具体的工作原理为,因为研磨装置上有主动齿轮、被动齿轮、两个过桥齿轮,当驱动机带动主动齿轮转动时,主动齿轮通过两个过桥齿轮的转动,带动被动齿轮的转动,从而可以研磨进入主动齿轮和被动齿轮之间的研磨物料。同时由于研磨物料有大有小,通过弹簧箱内部的弹簧压缩,从而带动弹簧箱推动推挡块,进而推进或退缩,进而调节主动齿轮和被动齿轮之间的空隙,从而有效研磨物料。

总之,以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利范围所作的均等变化与修饰,皆应属本发明专利的涵盖范围。

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