[发明专利]成像调整单元及应用其的调焦调平控制系统

权利要求书

1.一种成像调整单元，用于光刻机中的调焦调平控制系统，所述调焦调平控制系统包括照明单元、标记板、投影成像单元、接收成像单元、探测器和控制器，所述照明单元产生光束，所述光束经过标记板上的多个标记形成带有不同标记信息的多条入射光线，投影成像单元将所述入射光线投射至硅片，使得所述入射光线在硅片的硅片面上成像，形成多个标记投影，所述硅片面反射所述多个标记投影形成多条反射光线，接收成像单元将所述多条反射光线投射至所述探测器的探测面，使得所述多条反射光线在探测面上成像，所述控制器与所述探测器电性连接，所述控制器根据所述探测器的探测结果控制承载硅片的工件台移动，其特征是，所述成像调整单元包括：

第一成像调整单元，位于所述多条入射光线的光路中，包括：

多个第一调整棱镜，分别调整所述多条入射光线的光程，以将所述多条入射光线同时聚焦在所述硅片面上；以及

第二成像调整单元，位于所述多条反射光线的光路中，包括：

多个第二调整棱镜，分别调整所述多条反射光线的光程，以将所述多条反射光线同时聚焦在所述探测器的探测面上。

2.根据权利要求1所述的成像调整单元，其中第一成像调整单元位于所述标记板与所述投影成像单元之间，或者位于所述投影成像单元与所述硅片之间。

3.根据权利要求1所述的成像调整单元，其中第二成像调整单元位于所述硅片与所述接收成像单元之间，或者位于所述接收成像单元与所述探测器之间。

4.根据权利要求1所述的成像调整单元，其中第一调整棱镜或第二调整棱镜包括：

第一反射面，

第二反射面，平行于所述第一反射面，

其中所述第一调整棱镜或第二调整棱镜的入射和出射光线相互平行且具有一偏移值。

5.根据权利要求4所述的成像调整单元，其中第一成像调整单元中的所述多个第一调整棱镜的偏移值相同，第二成像调整单元中的所述多个第二调整棱镜的偏移值相同。

6.一种调焦调平控制系统，其用于调整光刻机中的硅片位置，其特征是，所述调焦调平控制系统包括：

照明单元，产生光束；

标记板，包括多个标记，所述光束经过标记板上的多个标记形成带有不同标记信息的多条入射光线；

投影成像单元，将所述入射光线投射至所述硅片，使得所述入射光线在硅片的硅片面上成像，形成多个标记投影；

接收成像单元；

探测器，所述硅片面反射所述多个标记投影形成多条反射光线，接收成像单元将所述多条反射光线投射至所述探测器的探测面，使得所述反射光线在探测面上成像；

控制器，与所述探测器电性连接，所述控制器根据所述探测器的探测结果控制承载硅片的工件台移动，

其中所述多条入射光线的光路中设置有第一成像调整单元，包括：

多个第一调整棱镜，分别调整所述多条入射光线的光程，以将所述多个标记同时聚焦在所述硅片面上；以及

所述多条反射光线的光路中设置有第二成像调整单元，包括：

多个第二调整棱镜，分别调整所述多条反射光线的光程，以将所述多个标记投影同时聚焦在所述探测器的探测面上。

7.根据权利要求6所述的成像调整单元，其中第一成像调整单元位于所述标记板与所述投影成像单元之间，或者位于所述投影成像单元与所述硅片之间。

8.根据权利要求6所述的成像调整单元，其中第二成像调整单元位于所述硅片与所述接收成像单元之间，或者位于所述接收成像单元与所述探测器之间。