[发明专利]一种防污闪绝缘子涂料及其制备方法有效
| 申请号: | 201010136490.X | 申请日: | 2010-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN101787244A | 公开(公告)日: | 2010-07-28 |
| 发明(设计)人: | 陈俊光 | 申请(专利权)人: | 陈俊光 |
| 主分类号: | C09D183/06 | 分类号: | C09D183/06;C09D183/08;C09D7/12;C09D5/16;C09D5/25;H01B17/50;H01B17/42 |
| 代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍 |
| 地址: | 510000 广东省广州市番*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 防污 绝缘子 涂料 及其 制备 方法 | ||
1.一种防污闪绝缘子涂料的制备方法,其特征在于由含氟的聚硅氧烷组分A、线性端羟基聚 硅氧烷组分B、有机或无机二氧化硅为补强材料组分C、功能性粉体材料组分D、交联剂E、催化 剂组分F、增粘剂组分G混合配制而成;各组份的重量份数用量如下:
组分A:5--15
组分B:20--50
组分C:10---50
组分D:0---30
组分E:2---8
组分F:0.1---1
组分G:1---5
各组分重量份数总和为100;
所述组份A是含氟的硅树脂或硅油,并且含有羟基或烷氧基官能团,组分A中氟含量占 0.3%---10%质量;组分A选自含氟硅树脂类聚硅氧烷A1或含氟线性聚硅氧烷组分A2,其结构如下:
羟基MDT含氟硅树脂类聚硅氧烷组分A1,
其中,R1为甲基或苯基 R2为氟烃基;
M=0.3-0.4,D=0.3-0.35,T1=0.2-0.3,T2=0.1-0.2,X=0.05-0.15
含氟线性聚硅氧烷组分A2
其中,R1为甲基或羟基,R2为甲基或氟烷基;R3为甲基或亚乙基的烷氧基,M为甲基; 组份B选自如下结构的线性端羟基聚硅氧烷:
R为甲基或苯基M为甲基;
组份C选自含甲基或羟基的MQ硅树脂,或者是比表面积为150-380平方米的疏水型气相白碳 黑;组份D选择AL2O3、AL(OH)3、Fe2O3、ZnO、TiO2、碳黑中的一种或一种以上,其粒径在0.05-10 微米;组份E选自三官能或四官能团的烷氧基或肟基类硅烷;组份F选自有机锡类催化剂;组分G 选自硅烷偶联剂或其水解物。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:
组份E选自甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、四 丁酮肟基硅烷、甲基三丁酮肟基硅烷或乙烯基三丁酮肟基硅烷;组份F选自月桂酸锡类或辛酸亚锡; 组分G选自氨丙基三甲氧基硅烷、环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、 苯胺甲基三甲氧基硅烷、氨乙基氨丙基三乙氧基硅烷中;选用一种或两种以上混合物。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:
组分A1是通过含氟烃基硅烷与其他硅烷水解反应、清洗、过滤后获取的硅树脂;A2是通过 含氟的环硅氧烷与甲基环硅氧烷开环聚合后用甲基或羟基封端,或者是由侧基合氢的线型氟硅氧烷 与乙烯基烷氧基硅烷加成反应制得;B组分是由甲基或苯基环硅氧烷开环聚合制成;是粘度在 500---80000cps的全甲基或含苯基线性端羟基硅油;
组分C是表面用硅烷处理的疏水性的比表面积为150-380M2的气相白碳黑;或者是羟基或甲 基封端的MQ硅树脂,其中M∶Q为0.6-1.5∶1;
组分G是由含氯硅烷酯化后的产物,单独使用或混合水解后使用。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于组分A、B、C、D、E、F、G分步进行无水充分 混合均匀、去除低分子后,在60℃以下进行均匀混合即可得本发明产物。
5.权利要求1-4之一所述方法制备得到的防污闪绝缘子涂料。
6.权利要求5所述的防污闪绝缘子涂料的使用方法,其特征在于添加易挥发的 醚类或烷烃类溶剂稀释后使用,或者直接使用。
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