[发明专利]膜厚测定方法及玻璃光学元件的制造方法

权利要求书

1.一种形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

改变测试用覆膜的膜厚来进行两次以上的下述处理：在对于波长λ纳米的光具有表面反射率R₀的测试用基体材料上形成所述测试用覆膜，测定该测试用覆膜对于所述波长λ纳米的光的表面反射率R′，由此导出所述测试用覆膜的膜厚与表面反射率变化量(R′-R₀)之间的关系式；以及

测定膜厚测定对象的覆膜对于所述波长λ纳米的光的表面反射率R，在所述关系式中应用该表面反射率R与所述测试用基体材料的表面反射率R₀的差分(R-R₀)作为所述表面反射率变化量，由此求取所述膜厚测定对象的覆膜的厚度。

2.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，使用与所述膜厚测定对象的覆膜相同的材料、并使用相同的成膜法，来形成所述测试用覆膜。

3.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，所述关系式是在所述膜厚与所述表面反射率变化量(R′-R₀)之间，相关系数为0.6以上的关系成立的一次函数。

4.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，形成有所述膜厚测定对象的覆膜的基体材料由与所述测试用基体材料相同的材料构成。

5.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，所述波长λ纳米是400～750纳米的范围。

6.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，所述差分(R-R₀)为0.01以上。

7.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，所述膜厚测定对象的覆膜的膜厚是0.4～40纳米的范围。

8.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，所述膜厚测定对象的覆膜是含碳膜。

9.根据权利要求8所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，所述含碳膜的含碳率为65％原子百分比以上。

10.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，形成有所述膜厚测定对象的覆膜的基体材料由玻璃构成。

11.根据权利要求1所述的形成在基体材料上的覆膜的膜厚测定方法，其中，形成有所述膜厚测定对象的覆膜的基体材料的表面是平面或曲面形状。

12.一种玻璃光学元件制造方法，该方法在使预成型且在表面具有覆膜的玻璃坯料加热软化的状态下进行冲压成型，由此转印成型模具的成型面，其特征在于，

对下述玻璃坯料进行所述冲压成型，关于该玻璃坯料，通过权利要求1至11中任一项所述的方法对所述覆膜的膜厚进行测定，所测定的膜厚在预先设定的基准范围内。

13.一种玻璃光学元件制造方法，其特征在于，该方法包括：

准备玻璃坯料批次的工序，该玻璃坯料批次包括多个预成型且在表面具有覆膜的玻璃坯料；

从所述批次提取至少一个玻璃坯料的工序；

通过权利要求1至11中任一项所述的方法来测定所述提取出的玻璃坯料表面的覆膜的膜厚的工序；以及

通过在加热软化了下述玻璃坯料的状态下进行冲压成型，来转印成型模具的成型面的工序，该玻璃坯料与所述测定的膜厚在预先设定的基准范围内的玻璃坯料在同一批次内。