[发明专利]等离子体显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种等离子体显示装置，包括：

第一基板和第二基板，间隔开且彼此面对；

多个寻址电极，在所述第一基板和所述第二基板之间；

多个阻挡肋，在所述第一基板和第二基板之间并限定多个放电单元和位于相邻的放电单元之间的非放电区域，所述非放电区域中具有碳基材料；

磷光体层，在所述多个放电单元中；以及

多个显示电极，在所述第一基板和第二基板之间并在与所述寻址电极交叉的方向上延伸。

2.根据权利要求1所述的等离子体显示装置，其中所述碳基材料为多孔材料。

3.根据权利要求2所述的等离子体显示装置，其中所述多孔材料具有在500m²/g至1500m²/g之间的表面积。

4.根据权利要求1所述的等离子体显示装置，其中所述多个阻挡肋包括：

多个第一阻挡肋构件，在与所述寻址电极相同的方向上延伸；以及

多个第二阻挡肋构件，在与所述显示电极相同的方向上延伸，

其中相邻的第二阻挡肋构件在相邻的放电单元之间间隔开以形成所述非放电区域。

5.根据权利要求1所述的等离子体显示装置，其中所述非放电区域包括多个非放电空间，每个所述非放电空间被所述阻挡肋围绕。

6.根据权利要求5所述的等离子体显示装置，其中每个所述非放电空间与对应的成对显示电极之间的空间重叠。

7.根据权利要求1所述的等离子体显示装置，其中所述碳基材料包括选自煤、碳黑、石墨、活性碳及其组合构成的组的材料。

8.根据权利要求1所述的等离子体显示装置，还包括在所述第一基板与所述第二基板之间的放电气体，该放电气体具有11％或更大含量的氙。

9.根据权利要求1所述的等离子体显示装置，还包括MgO层，该MgO层在所述第二基板上具有氧空位结构并覆盖所述显示电极。

10.一种制造等离子体显示装置的方法，该等离子体显示装置包括间隔开且彼此面对的第一基板和第二基板，所述方法包括：

在所述第一基板上形成多个寻址电极；

在所述第一基板和所述第二基板之间形成多个阻挡肋以限定多个放电单元和位于相邻的放电单元之间的非放电区域，所述非放电区域中具有碳基材料；

在所述多个放电单元中形成磷光体层；以及

在所述第一基板和所述第二基板之间形成多个显示电极，所述显示电极在与所述寻址电极交叉的方向上延伸。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述碳基材料为多孔材料。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述多孔材料具有在500m²/g至1500m²/g之间的表面积。

13.根据权利要求10所述的方法，其中形成所述多个阻挡肋包括：

形成在与所述寻址电极相同的方向上延伸的多个第一阻挡肋构件；以及

形成在与所述显示电极相同的方向上延伸的多个第二阻挡肋构件，

其中相邻的第二阻挡肋构件在相邻的放电单元之间间隔开以形成所述非放电区域。

14.根据权利要求10所述的方法，其中所述非放电区域包括多个非放电空间，每个所述非放电空间被所述阻挡肋围绕。

15.根据权利要求14所述的方法，其中每个所述非放电空间与对应的成对所述显示电极之间的空间重叠。

16.根据权利要求10所述的方法，其中所述碳基材料包括选自煤、碳黑、石墨、活性碳及其组合构成的组的材料。

17.根据权利要求10所述的方法，还包括形成放电气体，该放电气体在所述第一基板和所述第二基板之间且具有11％或更大含量的氙。

18.根据权利要求10所述的方法，还包括通过采用所述碳基材料去除所述放电单元中的杂质。

19.根据权利要求10所述的方法，还包括在将所述第一基板和所述第二基板密封在一起或所述等离子体显示装置的排气期间，通过氧化所述碳基材料而在所述放电单元中产生二氧化碳。

20.根据权利要求10所述的方法，还形成MgO层，该MgO层在所述第二基板上具有氧空位结构并覆盖所述显示电极。