[发明专利]荧光材料基板和图像显示装置及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及具有作为发光材料的荧光(fluorescent)材料的平面(flat)图像显示装置(诸如场发射显示装置(FED)和等离子体显示装置(PDP))。更特别地，本发明涉及用于平面图像显示装置中的荧光材料和荧光材料基板。

背景技术

在诸如FED和PDP的平面图像显示装置中，通过激励荧光材料而显示图像。因此，必须在这种平面图像显示装置中使用具有高亮度(luminance)的荧光材料。

但是，在制造具有荧光材料的平面图像显示装置的过程中，荧光材料的亮度可被劣化。在图像显示装置已被制造之后，在图像显示装置的长期使用中，荧光材料的亮度也可劣化。

因此，已建议这样的配置，其中，在荧光粒子的表面上形成包含SiO₂作为主成分的涂层并且保护荧光粒子(日本专利公开No.2002-338959)。

发明内容

但是，即使当荧光材料具有在其上形成的涂层时，当在图像显示装置的制造过程中加热荧光材料时，也在涂层中出现裂纹，荧光粒子的表面被带电(charged)，并且荧光材料被劣化。

本发明的一个方面提供一种抑制亮度劣化的荧光材料基板的制造方法、和图像显示装置的制造方法。

本发明的另一方面提供一种抑制亮度劣化的荧光材料基板、和使用所述荧光材料基板的图像显示装置。

本发明的第一方面涉及一种荧光材料基板的制造方法，包括：

通过在涂敷一个或更多荧光粒子的表面的、含有SiO₂的涂层中包含Bi、Pb、Sn和Sb之中的任何金属，使得所述涂层的表面中的所述金属的浓度变得等于或高于0.05ppm(ppm是parts per million(百万分之(几))的缩写；更详细地，表示重量的比率)，来提供荧光材料；以及

在衬底上设置具有所述荧光粒子、涂敷所述荧光粒子的表面的所述涂层、和包含于所述涂层中的所述金属的所述荧光材料，并且加热所述荧光材料。

本发明的第二方面涉及一种图像显示装置的制造方法，所述图像显示装置包括具有电子发射器件的电子源基板和具有荧光材料的荧光材料基板，其中，通过根据第一方面的荧光材料基板的制造方法来制造所述荧光材料基板。

本发明的第三方面涉及一种荧光材料基板，所述荧光材料基板包括衬底、设置在所述衬底上的荧光粒子、包含SiO₂并且涂敷所述荧光粒子的表面的涂层、和添加到所述涂层的表面的Bi、Pb、Sn、Sb之中的任何金属，其中，所述金属在所述涂层的表面中的浓度等于或大于0.05ppm。

本发明的第四方面涉及一种图像显示装置，所述图像显示装置包括具有电子发射器件的电子源基板和具有荧光材料的荧光材料基板，其中，所述荧光材料基板是根据本发明的第三方面的荧光材料基板。

根据本发明，在荧光粒子的表面上提供有涂层的荧光材料中，即使经过加热过程，也可抑制涂层中的裂纹的出现和亮度的降低。因此，根据本发明，可以实现抑制亮度劣化的提供有荧光材料的荧光材料基板，并且使用该荧光材料基板可提供具有高质量显示的图像显示装置。

从参照附图对示例性实施例的以下描述，本发明的进一步的特征将变得明显。

附图说明

图1是示出根据本发明的图像显示装置的一个例子的整体配置的示意性透视图。

图2A是示出根据本发明获得的荧光材料基板的配置的截面示意图。

图2B是示出根据本发明的荧光材料的配置的截面示意图。

具体实施方式

以下参照图1描述根据本发明的图像显示装置的配置。

根据本发明的图像显示装置包含具有电子发射器件的电子源基板和具有荧光材料的荧光材料基板，其中，荧光材料基板是下述的根据本发明的荧光材料基板。对于根据本发明的图像显示装置的制造方法，通过下述的根据本发明的荧光材料基板的制造方法来制造荧光材料基板。