[发明专利]超声波样品台以及用其进行粉体磁控溅射镀膜的方法

权利要求书

1.一种采用超声波样品台进行粉体磁控溅射镀膜的方法，其特征在于有下列步 骤：

(A)打开真空室，把装有粉体材料的样品容器安装在共振器的上方；

(B)关闭真空室，打开真空抽气装置中的机械泵抽真空至0.7Pa～0.9Pa；

(C)打开真空抽气装置中的分子泵抽真空至2.0×10^-3Pa～5.0×10^-3Pa；

(D)打开流量计，向真空室内充氩气至0.3Pa～0.4Pa；

(E)打开超声波发生器，调节超声波频率20kHz～500kHz和功率50W～ 2000W；

(F)打开靶电源，调节功率至500W～1500W，开始溅射镀膜；

(G)经100min～600min后关闭靶电源，停止溅射；

(H)按顺序关闭流量计、分子泵和机械泵，再打开放气阀缓慢向真空室内放气， 当真空室内压力与大气压力平衡后，打开真空室，取出样品容器，镀膜结束；

所述超声波样品台包括有样品容器、共振器和超声波发生器，样品容器置于共振 器上方，共振器通过电缆与超声波发生器相连；样品容器上设有空腔，该空腔用于放 置待加工物料；样品容器的底部的中心部位设有螺纹孔，在共振器的上方安装一螺纹 柱，该螺纹柱安装在样品容器底部的螺纹孔内，该螺纹孔与螺纹柱的螺纹配合实现将 样品容器安装在共振器上方；样品容器采用金属材料加工，其壁厚为0.2mm～ 1.0mm；超声波发生器输出的超声波频率为20kHz～500kHz和输出功率为50W～ 2000W。