[发明专利]溅射设备、双旋转挡板单元以及溅射方法

权利要求书

1.一种溅射设备，包括：

布置在真空容器中的多个溅射阴极；

包括第一挡板和第二挡板的双旋转挡板机构，所述第一挡板和第 二挡板布置成在面对所述溅射阴极的同时能够独立地旋转，并且所述 第一挡板和第二挡板每个都包括在预定位置处形成在其中的至少一个 开口，所述第二挡板与所述溅射阴极之间的距离大于所述第一挡板与 所述溅射阴极之间的距离；以及

置于所述溅射阴极与所述第一挡板之间的第一沉积护罩，所述第 一沉积护罩横向地围绕所述溅射阴极的位于所述第一挡板这一侧的前 表面区域。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，围绕所述第一挡板中的开 口的第二沉积护罩安装在所述第一挡板的位于所述第二挡板这一侧的 表面上。

3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述第二沉积护罩构造成 具有等于所述溅射阴极的直径的直径。

4.根据权利要求1所述的设备，

其中，所述溅射阴极包括：

阴极护罩，所述阴极护罩在与靶之间有预定的间隙的情况下围绕 所述靶的外部周边；和圆柱形构件，所述圆柱形构件连接至所述阴极 护罩，并且在与所述溅射阴极之间有预定的间隙的情况下围绕所述溅 射阴极的侧表面，并且

其中，通过所述溅射阴极与所述圆柱形构件之间的间隙以及所述 靶与所述阴极护罩之间的间隙，能够将溅射气体引到所述靶的前表面 上。

5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述第一沉积护罩安装在 所述阴极护罩的位于所述第一挡板这一侧的表面上。

6.根据权利要求1所述的设备，其中，所述第一挡板中的开口的 边缘是锥形的。

7.一种溅射方法，所述溅射方法由溅射设备执行，所述溅射设备 包括布置在真空容器中的多个溅射阴极以及具有第一挡板和第二挡板 的双旋转挡板机构，所述第一挡板和第二挡板布置成在面对所述溅射 阴极的同时能够独立地旋转，并且所述第一挡板和第二挡板每个都包 括在预定位置处形成在其中的至少一个开口，所述第二挡板与所述溅 射阴极之间的距离大于所述第一挡板与所述溅射阴极之间的距离；其 中，第一沉积护罩置于所述溅射阴极与所述第一挡板之间，并横向地 围绕所述溅射阴极的位于所述第一挡板这一侧的前表面区域；并且其 中，围绕所述第一挡板中的开口的第二沉积护罩安装在所述第一挡板 的位于所述第二挡板这一侧的表面上，所述方法包括：

预溅射步骤，在其中所述第一挡板中的开口定位在所述溅射阴极 的位于所述第一挡板这一侧的前表面区域中且所述第二挡板中的开口 没有定位在所述前表面区域中的布置的情况下，在将溅射气体引入到 所述前表面区域中时，执行放电；以及

主溅射步骤，在其中所述第一挡板中的开口和所述第二挡板中的 开口二者定位在所述溅射阴极的位于所述第一挡板这一侧的前表面区 域中的布置的情况下，在将溅射气体引入到所述前表面区域中时，执 行放电。