[发明专利]用于制造浮法玻璃的设备有效
| 申请号: | 201010119982.8 | 申请日: | 2010-02-22 |
| 公开(公告)号: | CN101805140A | 公开(公告)日: | 2010-08-18 |
| 发明(设计)人: | 文元载;罗相业;金洋汉;吴亨泳;金英植;金吉镐;朴熙俊;李昌熙 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
| 主分类号: | C04B18/18 | 分类号: | C04B18/18 |
| 代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 郑建晖;杨勇 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 制造 玻璃 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于制造浮法玻璃的设备,更具体而言,涉及一 种用于使用浮法玻璃生产法来制造浮法玻璃的设备。
相关申请的互相参引
本申请要求于2009年2月13日在大韩民国提交的韩国专利申请 No.10-2009-0011982的优先权,其全部内容通过参引纳入本说明书。
背景技术
通常,一种用于使用浮法玻璃生产法来制造浮法玻璃(也称为玻 璃片、平板玻璃或板玻璃)的设备用于通过如下方法来制造具有预定 宽度的带状的连续玻璃片:向存储在浮槽中的流动熔融金属(熔融锡 等)上连续供给熔融玻璃,同时使熔融玻璃浮在熔融金属上,由于表 面张力和重力从而形成达到大约均衡厚度的熔融玻璃带;并且将熔融 玻璃带拉起至浮槽出口附近的退火炉。
这里,所述熔融金属包括,例如,熔融锡或熔融锡合金,并具有 大于所述熔融玻璃的比重。所述熔融金属被接收在一个浮室中,将氢 气(H2)和/或氮气(N2)组成的还原介质引入该浮室。在浮室中的浮 槽被构造为在其中容纳熔融金属。该浮槽具有水平延伸的结构,并且 其中包括高热阻材料(例如,底部大块砖)。在从浮槽的上游端移动 至下游端的同时,所述熔融玻璃在熔融金属的表面上形成一熔融玻璃 带。所述熔融玻璃带在设置在浮槽的下游端的一位置——被称为离开 点——处被提起,以从所述熔融金属移出,并被递送至下一工序的退 火炉。
然而,因为浮室中的熔融金属处于高温状态(例如,大约600到 1100℃),所以在熔融金属、熔融玻璃、介质的H2和N2、非常少量的 O2、H2O和S之间发生化学反应,从而产生被称为“浮渣”的杂质。具 体而言,在浮槽的下游端(冷端)的离开点处和周围的温度低于上游 端(热端)的温度。由此,熔融金属的溶解性在下游端减小,因此, 易于在下游端产生并积累金属氧化物——例如SnO2等。当熔融玻璃带 从所述离开点被提起时,浮渣附接至熔融玻璃带的底部并伴随所述熔 融玻璃带从浮槽被拉起。因此,这导致刮伤、玷污等——这会不利地 影响随后的工序和/或浮法玻璃产品的质量。
为了解决所述问题,迄今为止已研发了各种技术。例如,如在日 本专利公布文本No.SO45-30711中公开的,一种常规的用于制造浮法 玻璃的设备包括一个收集通道,该收集通道具有近似T形的型腔,该 型腔的一个平面在宽度方向上稍微伸展浮槽的纵向端部的侧壁和后 壁。所述收集通道以预定角度形成,使得从暴露的排放区域聚集到收 集通道中的浮渣可被导引至所述型腔。所述浮渣从型腔排出到浮槽外。
如在日本专利特许公开公布文本No.2000-128552中公开的,另一 常规的用于制造浮法玻璃的设备包括:一个第一流道,其在相对于浮 法玻璃被拉出的方向的横向方向上延伸;以及一个第二流道,其连接 至第一流道的一端并与从一侧壁外侧开始的坝连通。该设备通过分立 的流道使熔融金属从浮槽的下游端流回至上游端。
然而,这些常规技术在浮槽的下游端的两侧处去除由浮槽中的污 染物导致的浮渣。然而,该常规技术在去除下游端熔融玻璃中央下面 积累的浮渣方面具有困难,为了去除这种浮渣,应打开具有分立的木 制带状工具的侧部密封件。在该工作环境下,当所述侧部密封件打开 时,所述浮槽可进一步被污染并且不能保障工作安全性。因此,浮法 玻璃产品的质量以及程序稳定性会恶化。
发明内容
本发明被设计以解决上述问题,并且因此本发明的一个目的在于 提供一种改进的用于制造浮法玻璃的设备,该设备具有多个排出切口, 其在一“支撑垫块”的宽度方向上形成,所述支撑垫块位于下游端处 在浮槽的地板大砖块之间。该设备使通过所述排出切口流入的熔融金 属流回至所述浮槽的侧部,由此稳定地去除浮在熔融金属上的浮渣。
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