[发明专利]改善光源均匀分布的方法及其结构无效
| 申请号： | 201010118534.6 | 申请日： | 2010-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN102147102A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | 张瑞聪;赖利弘;赖利温;许立民 | 申请（专利权）人： | 禧通科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F21V19/00 | 分类号： | F21V19/00;F21Y101/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 任永武 |
| 地址： | 中国台湾303新*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 改善 光源 均匀分布 方法 及其 结构 | ||
1.一种改善光源均匀分布的方法，其特征在于，包含下列步骤：
提供具有至少一曲面的一底座；以及
设置多个光源芯片于该曲面上。
2.根据权利要求1所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，该曲面是由至少一凸曲面及/或至少一凹曲面组合所构成。
3.根据权利要求2所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，该凸曲面或该凹曲面分别具有一曲率。
4.根据权利要求1所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，该些光源芯片是选自一发光二极管芯片及/或一激光芯片。
5.根据权利要求4所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，该激光芯片是一面射型激光芯片或一边射型激光芯片。
6.根据权利要求1所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，这些光源芯片是呈不规则设置或规则状设置。
7.根据权利要求1所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，这些光源芯片是呈多边形阵列设置。
8.一种改善光源均匀分布的方法，其特征在于，是将多个光源芯片设置于一曲面上，其中该曲面是由至少一凸曲面及/或至少一凹曲面组合所构成且这些光源芯片所射出的光束可相互补偿避免光晕的产生以提供均匀光源。
9.根据权利要求8所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，该凸曲面或该凹曲面分别具有一曲率。
10.根据权利要求8所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，这些光源芯片是呈不规则设置或规则状设置。
11.根据权利要求8所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，这些光源芯片是呈多边形阵列设置。
12.根据权利要求8所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，这些光源芯片是选自一发光二极管芯片或一激光芯片。
13.根据权利要求12所述的改善光源均匀分布的方法，其特征在于，该激光芯片是一面射型激光芯片或一边射型激光芯片。
14.一种改善光源均匀分布的结构，其特征在于，包含：
具有至少一曲面的一底座；以及
多个光源芯片设置于该底座的该曲面上。
15.根据权利要求14所述的改善光源均匀分布的结构，其特征在于，该曲面是由至少一凸曲面及/或至少一凹曲面组合所构成。
16.根据权利要求15所述的改善光源均匀分布的结构，其特征在于，该凸曲面或该凹曲面分别具有一曲率。
17.根据权利要求14所述的改善光源均匀分布的结构，其特征在于，这些光源芯片是选自一发光二极管芯片或一激光芯片。
18.根据权利要求17所述的改善光源均匀分布的结构，其特征在于，该激光芯片是一面射型激光芯片或一边射型激光芯片。
19.根据权利要求14所述的改善光源均匀分布的结构，其特征在于，这些光源芯片是呈不规则设置或规则状阵列设置。
20.根据权利要求14所述的改善光源均匀分布的结构，其特征在于，些光源芯片是呈多边形阵列设置。
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