[发明专利]利用陶瓷抛光砖污泥制备微晶玻璃的方法

权利要求书

1.一种利用陶瓷抛光砖污泥制备微晶玻璃的方法，其特征在于包括如下 步骤和工艺条件：

(1)以重量百分比计，将陶瓷抛光砖污泥55％～70％、石英5％～15％、氧 化钙10％～20％、碳酸钠3％～10％、碳酸钡1％～10％和氧化锌1％～10％充分混 合均匀，配成微晶玻璃原料；所述陶瓷抛光砖污泥是陶瓷抛光砖经研磨抛光工 序而产生的废渣，其中含有70.73％的SiO₂、21.38％的Al₂O₃、0.62％的 Fe₂O₃、1.01％的CaO、1.04％的MgO、1.11％的Na₂O、2.27％的K₂O和1.84％的 烧失量；或者是含有67.25％的SiO₂、23.05％的Al₂O₃、0.9％的Fe₂O₃、1.4 ％的CaO、1.14％的MgO、1.34％的Na₂O、3.37％的K₂O和1.55％的烧失量；或 者是含有68.87％的SiO₂、21.67％的Al₂O₃、0.82％的Fe₂O₃、1.87％的CaO、 1.22％的MgO、1.57％的Na₂O、2.84％的K₂O和1.14％的烧失量；

(2)将步骤(1)的原料中配制好的微晶玻璃原料放入窑炉里，升温至 1400℃±50℃保温1～3h，将全部熔化的玻璃液直接倒入水中，进行水淬，碎 成玻璃颗粒，再把玻璃颗粒烘干并筛分得到0.5～5mm大小的玻璃颗粒备用；

(3)将步骤(2)得到玻璃颗粒干燥，平铺在模具上，置于窑炉中采用两 步法热处理，制备出微晶玻璃；所述两步法热处理是在920℃±30℃保温 40～60min核化；然后升温度至1100℃±50℃保温80～120min进行晶化。

2.根据权利要求1所述的利用陶瓷抛光砖污泥制备微晶玻璃的方法，其 特征在于：步骤(2)所述升温至1400℃±50℃是以5-10℃/min的升温速率 升温至1400℃±50℃。

3.根据权利要求1所述的利用陶瓷抛光砖污泥制备微晶玻璃的方法，其 特征在于：步骤(3)所述两步法热处理是在920℃保温50min核化；然后升 温度至1100℃保温100min进行晶化。